Glow discharge processes: sputtering and plasma etching / Brian Chapman
Chapman, Brian;
(John Wiley and Sons, 1980)
|
| Jenis Koleksi : | Buku Teks |
| No. Panggil : | 537.52 CHA g |
| Entri utama-Nama orang : | |
| Subjek : | |
| Penerbitan : | New York: John Wiley and Sons, 1980 |
| Sumber Pengatalogan: | |
| ISBN: | [047107828X, 047107828X] |
| Tipe Konten: | |
| Tipe Media: | |
| Tipe Carrier: | |
| Edisi: | [, ] |
| Catatan Seri: | A Wiley-Interscience publication |
| Catatan Umum: | |
| Catatan Versi Asli: | |
| Deskripsi Fisik: | xv, 406 p. : ill. ; 23 cm. |
| Lembaga Pemilik: | Universitas Indonesia |
| Lokasi: | Perpustakaan UI, Lantai 2 |
| No. Panggil | No. Barkod | Ketersediaan |
|---|---|---|
| 537.52 CHA g | 01-10-04014403 | TERSEDIA |
| 537.52 CHA g | 01-13-017182 | TERSEDIA |
| Ulasan: |
| Tidak ada ulasan pada koleksi ini: 20342138 |
