Artikel Jurnal :: Kembali

Artikel Jurnal :: Kembali

Indeks bias dan relasinya terhadap struktur ikatan lapisan tipis amorf silikon karbon (a-SiC:H) hasil deposisi metode dc sputtering

([Publisher not identified] , [Date of publication not identified] )

 Abstrak

Lapisan tipis amorf silikon karbon (a-SiC:H) dideposisi dengan metode de sputtering menggunakan target silikon dalam campuran gas argon dan metan. Indeks bias sebagai fungsi energi diperoleh dari hasil pengukuran transmisi. Indeks bias akan dianalisis terhadap sifat struktur (inframerah) dan komposisi (electron probe microanalysis/EPMA, Rutherford BackscatteringIRBS). Baik hidrogen maupun karbon keduanya memberikan pengaruh terhadap berkurangnya harga indeks bias dengan bertambahnya flow rate gas metan. Berkurangnya harga indeks bias, hubungannya dengan kepadatan material dan struktur ikatan Si-H, C-H dan Si-C akan didiskusikan

 Metadata

Jenis Koleksi : Artikel Jurnal
No. Panggil : JURFIN 7:20 (2003)
Subjek :
Sumber Pengatalogan :
ISSN : 14102994
Majalah/Jurnal : Jurnal Fisika Indonesia 7 (20) April 2003. Hal. : 21-30
Volume :
Tipe Konten :
Tipe Media :
Tipe Carrier :
Akses Elektronik :
Institusi Pemilik : Universitas Indonesia
Lokasi : Perpustakaan UI, Lantai 4 R. Koleksi Jurnal
  • Ketersediaan
  • Ulasan
  • Sampul
No. Panggil No. Barkod Ketersediaan
JURFIN 7:20 (2003) TERSEDIA
Ulasan:
Tidak ada ulasan pada koleksi ini: 20436616
Cover