Preparasi elektroda boron-doped diamond (BDD) termodifikasi platina (Pt) berhasil dilakukan menggunakan teknik wet seeding yang diikut oleh elektrodeposisi. Pt yang terdeposisi pada permukaan BDD dikarakterisasi menggunakan Scanning Electron Microscopy-Energy Dispersive Spectroscopy (SEM-EDS) yang menunjukkan %Pt pada permukaan BDD sebesar 1.54 %. Elektroda ini digunakan untuk sensor As
3+ dan As
5+ menggunakan teknik Anodic Stripping Voltammetry (ASV).
Hasil deteksi As
3+ yang diperoleh pada kondisi optimum pada potensial deposisi -500 mV, waktu deposisi 150 detik dan laju deteksi 200 mV/s menunjukkan bahwa linieritas tinggi (R
2 = 0.9797) pada rentang konsentrasi 0 sampai 100 ppb dengan limit deteksi (LOD) sebesar 16.50 ppb, sementara hasil deteksi As
5+ dengan pre-treatment menggunakan NaBH4 0.1 M pada kondisi optimum yang sama menunjukkan linieritas yang tinggi (R
2 = 0.9903) pada rentang konsentrasi 0 sampai 100 ppb memiliki linearitas yang tinggi dengan LOD sebesar 8.19 ppb.
Boron-doped diamond electrode modified by platinum was successfully prepared using wet seeding technique followed by electrodeposition. Pt deposited on the surface of BDD characterized using Scanning Electron Microscopy-Energy Dispersive Spectroscopy (SEM-EDS) which shows %Pt on BDD surface are 1.54%.These modified electrode are used for As3+ and As5+ sensors using the Anodic Stripping Voltammetry (ASV) technique. As3+ and As5+ detection results obtained using the same deposition potential of -500 mV, deposition time of 150 s and detection rate of 200 mV/s, with addition of 0.1 M NaBH4 for As5+ solution, shows that the calibration in the concentration range 0 to 100 ppb has high linearity (R2 = 0.9797 and 0.9903, respectively) with LOD at 16.50 and 8.19 ppb, respectively.