ABSTRAKPengembangan metode fotolitografi dengan metode UV LED telah berkembang secara
massif dalam satu dekade ini. Teknologi ini telah sangat dikenal untuk melakukan
pembuatan pola dari suatu photo-mask yang selanjutnya akan ditransfer ke sebuah
spesimen atau substrat dengan cara pencahayaan memakai sinar UV LED. Saat ini,
teknologi fotolitografi telah dikembangkan secara lebih masif lagi untuk melakukan
fabrikasi sebuah kanal mikro pada perangkat mikrofluidik. Untuk melakukan fabrikasi
yang optimal pada sebuah kanal mikro yang terwujud dari desain photo-mask, maka
parameter terbaik dibutuhkan untuk membuat kanal mikro yang sempurna. Pada bagian
akhir riset ini, kami mendefinisikan karakteristik performa fotolitografi untuk parameterparameter
yang telah ditetapkan.
ABSTRACTThe photolithography with UV LED has been greatly developed since the last decade.
This technology is widely known to create a pattern from a photo-mask to the substrate
with exposing the UV LED to the targeted specimen. In the recent years, this technology
has been massively used to create a pattern of micro-channel on microfluidic devices. In
order to fabricate such an optimum desired micro channel design from the mold or mask,
a finest parameter is demanded to create a faultless microfluidic channel. At the end of
the research, we define photolithography characteristics to perform for a predetermined
parameter.
S-Rayzi Rizqika.pdf :: Unduh