UI - Skripsi Membership :: Back

UI - Skripsi Membership :: Back

Pengembangan photolithography tanpa mask dengan teknologi digital micro mirror device (DMD) dan sumber cahaya hibrida = Developing maskless photolithography process with digital micro mirror device (DMD) technology and hybrid lighting

Ignatia Averina Chita Nirmala; Jos Istiyanto, supervisor; Yudan Whulanza, examiner; Sugeng Supriadi, examiner; Gandjar Kiswanto, examiner ([Publisher not identified] , 2019)

 Abstract

ABSTRAK
Maskless photolithography menggunakan proyektor DLP merupakan
proses yang mudah dan sederhana, namun durasi pemaparan jika hanya
menggunakan cahaya tampak memakan waktu cukup lama. Inovasi yang diajukan
adalah pencahayaan hibrida antara sinar tampak dan sinar UV, dengan tujuan
mempersingkat durasi pemaparan. Dalam penelitian ini akan dibahas tentang
pengaruh pemaparan secara hibrida, yaitu penambahan cahaya UV pada pemaparan
dengan DLP, terhadap waktu yang dibutuhkan untuk proses pemaparan. Proyektor
DLP memiliki sebuah chip DMD yang fungsinya memantulkan cahaya secara pixel,
maka DLP dapat digunakan sebagai alat maskless photolithography. Jika
gelombang cahaya semakin kecil, maka frekuensi semakin besar, sedangkan energi
berbanding lurus dengan frekuensi. Maka itu dibutuhkan gelombang cahaya yang
kecil, agar intensitas yang masuk lebih banyak dan mempersingkat waktu.
Pemaparan hibrida dilakukan dengan menggabungan cahaya sinar UV dari luar
proyektor DLP. Dalam penelitian ini didapatkan rasio antara sumber hibrida dan
total durasi pemaparan sebesar 1:15. Hasil yang didapat dengan metode tersebut
dapat mempercepat proses pemaparan sekitar 60%, dibandingkan dengan cahaya
tampak saja.

ABSTRACT
Maskless Photolithography using DLP projector is simple and easy, but
with only visible light as its source, the exposure process takes quite some time.
This research purposed hybrid lighting from visible light and UV light with the aim
of shortening the exposure time. This research will explain about how the DLP
works to provide maskless photolithography and the effect of UV light addition to
the exposure time. DLP projector has a chip, called DMD, to reflect light from the
source in pixel form, therefore, DLP can be used for maskless photolithography.
The shorter the wavelength of light, the higher the frequence of that light, and
energy is directly proportional to frequency. Thats why maskless photolithography
needs light with short wavelength. This hybrid light system has been done with
combining two light sources which are visible light in the DLP projector and adding
UV light from the outside. This hybrid exposure. In this research, the ratio between
hybrid lighting and total exposure time is 1:15. The result that we get from this
method saves around 60% of time that was consumed with visible light exposure.

 Digital Files: 1

Shelf
 S-Ignatia Averina Chita Nirmala.pdf :: Download

LOGIN required

 Metadata

Collection Type : UI - Skripsi Membership
Call Number : S-Pdf
Main entry-Personal name :
Additional entry-Personal name :
Additional entry-Corporate name :
Study Program :
Subject :
Publishing : [Place of publication not identified]: [Publisher not identified], 2019
Cataloguing Source LibUI ind rda
Content Type text
Media Type computer
Carrier Type online resource
Physical Description xv, 64 pages : illustration ; 28 cm + appendix
Concise Text
Holding Institution Universitas Indonesia
Location Perpustakaan UI, Lantai 3
  • Availability
  • Review
  • Cover
Call Number Barcode Number Availability
S-Pdf 14-20-810807568 TERSEDIA
Review:
No review available for this collection: 20489817
Cover