Hasil Pencarian  ::  Simpan CSV :: Kembali

"Ketahanan warna merupakan parameter penting pada aplikasi cat. Penelitian ini bertujuan untuk mempelajari proses kinetika degradasi warna akibat paparan sinar UV serta agar mengetahui lamanya ketahanan warna cat dan besar nilai perubahan warna yang dihasilkan dari Kopolimer Stirena MMA. Kopolimer Stirena MMA sebagai aplikasi cat diuji dengan variasi temperatur, waktu, dan pigmen. Data diperoleh menunjukkan bahwa Kopolimer Stirena MMA sebagai aplikasi cat dengan penambahan pigmen 3% dan 10% lebih tahan dalam menahan sinar UV dengan perubahan warna yang tidak terlalu besar ΔE ≤ 3 sedangkan Kopolimer Stirena MMA tanpa pigmen dan pigmen 5% mengalami perubahan warna yang signifikan setelah penyinaran UV selama 50 jam dan pada temperatur 50℃. Berdasarkan hasil pengukuran, kinetika degradasi warna mengikuti persamaan Avrami yang menunjukkan bahwa semakin tinggi kenaikan temperatur maka semakin cepat laju degradasi. Energi aktivasi rendah mempengaruhi laju degradasi pigmen 3% dan pigmen 5% menjadi lebih cepat dibandingkan dengan penelitian tanpa pigmen dan pigmen 10%.

---

Color durability is an important parameter in paint application. This research aims to study the kinetics of color degradation due to exposure to UV light and to determine the length of color retention and the magnitude of the color change resulting from Styrene MMA Copolymer. Styrene MMA copolymer as a paint application was tested with variations in temperature, time and pigment. The data obtained shows that MMA Styrene Copolymer as a paint application with the addition of 3% and 10% pigment is more resistant to UV rays with color changes that are not too large ΔE ≤ 3 while MMA Styrene Copolymer without pigment and 5% pigment experience significant color changes after that UV copying for 50 hours and at a temperature of 50℃. Based on the measurement results, the color degradation kinetics follow the Avrami equation which shows that the higher the temperature rise, the faster the degradation rate. Low activation energy influences the degradation rate of 3% pigment and 5% pigment to be faster compared to studies without pigment and 10% pigment."

"Pembuatan kopolimer (stirena/butil akrilat/metil metakrilat) dilakukan dengan metode polimerisasi emulsi. Penelitian ini bertujuan untuk melihat pengaruh variasi inisiator dan teknik polimerisasi terhadap ukuran partikel pada kopolimerisasi emulsi stirena-butil akrilat-metil metakrilat. Inisiator yang digunakan adalah inisiator anorganik dan organik, yaitu ammonium persulfat (APS), hidrogen peroksida (H2O2), ters-butil hidroperoksida (TBHP), serta inisiator redoks (H2O2/asam askorbat). Teknik polimerisasi yang dilakukan adalah teknik batch dan semi kontinu. Kopolimer yang dihasilkan ditentukan kandungan padatan, viskositas, ukuran dan distribusi ukuran partikel, temperatur glass, IR dan berat molekulnya. Hasil kopolimerisasi emulsi bila menggunakan inisiator TBHP dan H2O2 kurang sempurna, oleh karena itu digunakan pasangan inisiator redoks H2O2/asam askorbat. Asam askorbat berfungsi sebagai pemicu dalam pembentukan radikal OH, sehingga polimer emulsi yang dihasilkan lebih sempurna. Semakin banyak inisiator yang ditambahkan, ukuran partikelnya pun akan semakin besar. Ukuran partikel yang dihasilkan akan mempengaruhi sifat-sifat polimer yang dihasilkan. Kata kunci : polimerisasi emulsi, inisiator, surfaktan, teknik polimerisasi."

"Optimasi polimerisasi emulsi core-shell stirena-etil akrilat telah dilakukan pada penelitian ini, dengan penambahan konsentrasi inisiator NaPS tahap kedua, yakni 0,5%, 1,0% dan 1,5%. Teknik polimerisasi yang digunakan pada polimerisasi core stirena adalah batch dengan waktu 5 jam (4 jam reaksi dan 1 jam aging) dengan suhu polimerisasi 750C, dihasilkan core stirena dengan hasil konversi 86,65% dan ukuran partikel berkisar antara 68,78nm dengan nilai PDI sebesar 0,029, sedangkan teknik pada polimerisasi core-shell stirena-etil akrilat adalah semikontinu dengan dengan waktu 5 jam (4 jam feeding dan 1 jam aging) dengan suhu polimerisasi 750C. Variasi konsentrasi inisiator NaPS pada polimerisasi core-shell stirena-etil akrilat menghasilkan kondisi optimum pada konsentrasi inisiator NaPS 1,0%, yakni persen hasil konversi sebesar 75,07% dengan ukuran partikel berkisar 166.8nm dan nilai PDI sebesar 0,07. Data hasil karakterisasi FTIR, DSC, FE-SEM dan PSA memperkuat bukti telah terjadi polimerisasi.

---

Optimation of styrene-ethyl acrylate core-shell have done at this study, with added initiator NaPS concentration in core-shell polimerization, 0.5%, 1.0% and 1.5%. The polymerization techniques used in styrene core polimerization was batch during 5 hours (4 hours reaction and 1 hour aging) at polymerization temperature 750C, resulted % conversion styrene core 86.65% and particle size gave particle size i.e. 68.78nm with PDI value i.e. 0.029, whereas the technique of styrene-ethyl acrylate core-shell polimerization was semicontinue during 5 hours (4 hours feeding and 1 hour aging) at polymerization temperature 750C. Variance NaPS initiator concentration in styrene-ethyl acrylate core-shell polimerization resulted optimum condition at NaPS initiator concentration 1.0%, % conversion i.e. 75.07% and particle size gave i.e. 166.8nm with PDI value i.e. 0.07. The result of characterization IR, DSC, SEM and PSA supported the evidence that occurred the polimerization."

"Ukuran partikel merupakan salah satu faktor yang menentukan sifat polimer emulsi. Untuk aplikasi coating, dibutuhkan polimer emulsi dengan ukuran partikel yang kecil agar diperoleh hasil coating yang halus, kekuatan adhesi dan ketahanan terhadap air yang baik, serta kestabilan yang cukup lama. Penelitian ini bertujuan melihat pengaruh dari surfaktan natrium dodesil benzena sulfonat (SDBS) rantai bercabang serta beberapa teknik polimerisasi emulsi terhadap ukuran partikel kopoli(stirena/butil akrilat/metil metakrilat) dengan menggunakan kombinasi surfaktan anionik dan nonionik (nonil fenol, EO|U) serta inisiator ammonium persulfat.Hasil pengukuran DSC, solid content, dan IR menunjukkan bahwa terbentuk kopoli (stirena/butil akrilat/metil metakrilat). Dari hasil yang diperoleh, dapat dilihat bahwa terbentuk grit yang banyak. Teknik batch dapat menghasilkan solid content tertinggi yaitu 38,47%. Teknik semi kontinyu secara umum menghasilkan viskositas yang tinggi yaitu 128 mPas. Surfaktan SDBS rantai bercabang secara umum menghasilkan polimer emulsi dengan ukuran partikel yang kecil tetapi grit yang terbentuk lebih banyak. Banyaknya persen seeding monomer dan inisiator yang ditambahkan ke dalam initial charge mempengaruhi ukuran partikel polimer emulsi yang terbenluk, dan jumlah inti yang dihasilkan."

"Penelitian ini mengkaji kinerja UV detektor berbasis ZnO nanorods. ZnO dipilih sebagai material utama karena sifat-sifatnya yang unggul seperti band gap energi yang lebar, mobilitas elektron yang tinggi, dan sensitivitas terhadap sinar UV. Pengembangan UV detektor berbasis ZnO NRs dilakukan untuk mendapatkan material yang terbaik. Pengaruh radiasi UV/Ozone dilakukan untuk memodifikasi sifat-sifat material. Perlakuan UV/Ozone menghasilkan perubahan yang signifikan pada ZnO NRs, seperti modifikasi morfologi, peningkatan kristalinitas, dan efisiensi emisi PL. UV detektor berbasis ZnO NRs dengan UV/Ozone menunjukkan responsivitas yang signifikan dari 0.13 A/W menjadi 0.64 A/W. Peningkatan responsivitas ini juga menyebabkan peningkatan detektivitas dari 0.99×10^10 Jones menjadi 4.46×10^10 Jones. Selain itu sensitivitas dan efisiensi konversi foton ke listrik juga meningkat, dengan hasil terbaik menunjukkan peningkatan sensitivitas dari 25% menjadi 100% dan EQE 43.26% menjadi 216.28%. Hasil ini memberikan wawasan mendalam tentang potensi penerapan radiasi UV/Ozone dalam meningkatkan kinerja detektor UV berbasis ZnO NRs. Implikasinya adalah pengembangan UV detektor yang lebih responsif, sensitif, dan stabil untuk berbagai aplikasi, termasuk pengukuran radiasi UV, sensor lingkungan, dan teknologi fotovoltaik.

---

This research examines the performance of UV detectors based on ZnO nanorods. ZnO is chosen as the primary material due to its superior properties such as wide band gap energy, high electron mobility, and sensitivity to UV light. The development of UV detectors based on ZnO NRs is carried out to obtain the best material. The influence of UV/Ozone radiation is applied to modify the material properties. UV/Ozone treatment results in significant changes in ZnO NRs, such as morphological modifications, increased crystallinity, and enhanced PL emission efficiency. UV detectors based on ZnO NRs treated with UV/Ozone showed a notable increase in responsivity from 0.13 A/W to 0.64 A/W. This increased responsivity also led to an improvement in detectivity from 0.99×10^10 Jones to 4.46×10^10 Jones. Additionally, the sensitivity and the efficiency of converting photons to electricity also improved, with the best results showing an increase in sensitivity from 25% to 100% and EQE from 43.26% to 216.28%. These results provide valuable insights into the potential application of UV/Ozone radiation in enhancing the performance of UV detectors based on ZnO NRs. The implications include the development of more responsive, sensitive, and stable UV detectors for various applications, such as UV radiation measurement, environmental sensors, and photovoltaic technology."

"Pada penelitian ini dilakukan sintesis polimer suspensi poli[stirena-ko-(butil akrilat)] melalui polimerisasi radikal bebas untuk mempelajari pengaruh komposisi monomer stirena dan butil akrilat terhadap temperatur transisi gelas (Tg) kopolimer, serta mempelajari pengaruh konsentrasi inisiator benzoil peroksida terhadap solid content, viskositas dan ukuran partikel kopolimer. Dari hasil penelitian diperoleh bahwa, komposisi monomer mempengaruhi nilai Tg kopolimer, dengan semakin banyak komposisi monomer stirena yang digunakan, semakin tinggi nilai Tg kopolimer yang dihasilkan. Komposisi monomer optimum diperoleh pada saat perbandingan komposisi antara stirena dengan butil akrilat 55:45, dengan Tg yang dihasilkan sebesar 38,18ºC. Konsentrasi inisiator mempengaruhi nilai solid content dan viskositas, akan tetapi tidak mempengaruhi ukuran partikel kopolimer. Konsentrasi inisiator optimum diperoleh pada saat konsentrasi inisiator 1% dari berat monomer total, dengan nilai solid content yang dihasilkan sebesar 39,34% dan viskositas kopolimer sebesar 781,25 centiPoise. Karakterisasi menggunakan FTIR, GPC dan DSC menunjukkan bahwa polimer suspensi poli[stirena-ko-(butil akrilat)] telah berhasil disintesis.

---

In this research, suspension polymers of poly[styrene-co-(butyl acrylate)] synthesis was done by using free radical polymerization method to study not only the effects of various monomer composition of styrene and butyl acrylate on the glass transition temperature (Tg), but also to study the effects of various initiator concentration of benzoyl peroxide on the solid content, viscosity and particle size of copolymer. The result showed that monomer composition affected the Tg of copolymers. The more amount of styrene used, the higher value of Tg copolymers produced. Optimum monomer composition was obtained when the composition ratio between styrene and butyl acrylate 55:45, with the value of Tg of 38,18ºC. Initiator concentration affected the value of solid content and viscosity, but didn?t affect the particle size of copolymer. Optimum initiator concentration was obtained when the initiator concentration 1% from the total weight of monomers, with the value of solid content of 39,34% and the viscosity of 781,25 centiPoise. The FTIR, GPC and DSC result showed that suspension polymers of poly[styrene-co-(butyl acrylate)] has been successfully synthesized."

"Latar belakang: Pajanan MEK dan sinar Ultraviolet dibagian Cementing (pengeleman) dapat mengganggu kesebatan, khususnya kesehatan mata pekelja. Jumlab kasus Konjungtivitis di klinik perusabaan yang selalu masuk !islam sepulub penyakit tetbanyak, sangat meumlk unlak diteliti lebih jauh, apakab kasus konjungtivitis yang terjadi di Perusahaan P sebagai akibat pekerjaan atau bukan sebagai akibat pekerjaan.Merode: Menggunaken metude studi pre dan post, dimana dilakukan intervensi dengan menggunakan chemical goggles. Semua pekerja dibagian Cementing (pengeleman) sejumlan 44 orang yang terpajan uap MEK drul sinar Ultraviolet diikutsertakan dalam penelitian ini. Pengumpulan data dilakukan dengan wawancara, pengisian kuesioner dan informed oleh pekelja dan pemeriksan fisik dan status kesehatan mata oleh dokter pemeriksa (bukan peneliti). Pada analisis data dinilai apakeh goggles dapat menurunkan jumlab kasus Konjungtivitis AkibatKerja.Hasil: Jumlab kasus Konjungtivitis Akibat Kerja sebelum penmkaian goggles 59.1% drul pada saat pentakaian goggles 56.8%. Penggonaan goggles pada penelitian ini menjadi kurang efektif disebabkan ketidakdisiplinan responden (68.2%) melepaskan goggles pada waktu bekerja. Ketidakdisiplinan disebabkan karena tingkat pendidikan responden terbesar tarnat SD-SMP sehingga kesadaran akan kesebatan kurang dan juga ketidaknyamanan (70.4%) sehingga responden sering melepaskan gogglesnya. Ketidaknyamanan didnkung dengan suhu lingkangan yang tinggi. Secara statistik tidak ditemukan hubungan yang barmakua (p> 0.05) antam faktor resiko untuk variabel umur, masa kerja, tinggl mata saat duduk, pendidikan dan kesehatan mata ( tes Schirmer) dengan terjadinya Konjungtivitis akibat kerja. Dari analisis uji Me Nemar diperoleb basil dimana tidak ada perbedaan jumlah kasus konjungtivitis sebalum dan setelab penggonaan chemical goggles pada peke!ja yang terpajan uap Metil Etil Keton drul sinar Ultraviolet.Kesimpulan: tidak terdapat perbedaan jumlab kesus konjungtivitis akibat kelja sebelum dan setelab penggunaan chemical goggles pada peke!ja yang terpajan palarut organik Metil Etil Keton dan sinar Ultraviolet dikarenakan ketidakdisiplinan di lingkungan kerja yang panas.

---

Background: exposure to MEK and UV mys at cementing division may cause various health problem, especially to the eyes of workers. It is very interesting subject to be studied that the incidence of conjunctivitis in company clinic always be among the most top ten diseases. Have the conjunctivitis occurred because of their job or not?Methods: study was conducted by pre and post design in which post study, respondents were interfered by using chemical goggle. Forty four workers who exposed to MEK and UV miss at cementing division plant 5 were included in tills study. Data was collected by interviewing, questionnaire, physical examination and eyes examination. Analyses of the data had done to assess whether the goggle could reduce the incident of occupation.al conjunctivitis.Results: Not having worn the goggle, the incidence of conjunctivitis among respondents was 59.1 %. Having worn the goggle the incidence of conjunctivitis among respondents was 56.&%. One of the reason was that respondents had not been discipline to wear the goggle. It was happened because most of respondents had have low educational level (elementary and junior high school) that influence to their health awareness. Respondents were also often to release the goggles {70.4%) because the use of goggles had been not convenient. That inconvenient could be result in the temperature so it is necessary to improve working environment. There was no significant relationship (p> 0.05) between risk factors for the variable of age, length of work, height level of the eyes when sitting, education level and health condition of the eyes (shimmer test) with occupational conjunctivitis. Using Me Nemar 1est obtained that there was no significant differences between pre and post the use of chemical goggle on workers who exposed to MEK and UV rays.Conclusions: This study couldn't prove the hypothesis that there had been differences on incideoce of occupational conjunctivitis between pre and post the use of chemical goggle on workers who had exposed to MEK and UV rays."

"Mahalnya harga sebuah UV-photolithography aligner di pasaran menjadi sebuah alasan untuk merancang dan mengkarakterisasi UV-photolithography aligner berbiaya murah. Proses photolithography yang sederhana tapi perlu ketelatenan, memungkinkan untuk memodifikasi photolithography aligner dengan cara menggunakan komponen-komponen komersial dan tentu saja harganya murah. Tujuan penelitian ini adalah menganalisa kemampuan produk komersial dalam proses UV-photolithography, mencari waktu exposure dan resolusi optimum. Metoda proses photolithography yang digunakan adalah metoda kontak. Lampu UV komersial dan photomask yang murah merupakan komponen utama dalam penelitian ini. Dengan intensitas cahaya 0,2 mW/cm2 memerlukan waktu exposure minimal 50 detik. Waktu exposure optimum tergantung dari pada bahan photomask. Resolusi terkecil yang dicapai tergantung resolusi photomask. Hasil resolusi terkecil adalah 165 µm dengan persentase penyimpangan 10 % terhadap desain awal.

---

The high price of a UV-photolithography aligner on the market is the reason for designing and characterize low cost UV-photolithography aligner. Photolithography process is simple but it needs patience, enable to modify photolithography aligner by using commercial components and certainly low price. The objective of this study is analyzing the ability of a commercial product in UV-photolithography process, search optimum exposure time and resolution. The method of photolithography process to be used is the method of contact alignment. Commercial UV lamps and cheap photomask are main component in this study. With a light intensity of 0.2 mW/cm2 require the exposure time at least 50 seconds. The smallest achievable resolution depends on the resolution photomask. The Results of smallest resolution is 165 µm with a percentage error 10% of the original design."

"Sunshine is good for you! While too much sun causes wrinkles and raises other health concerns, a lack of sun exposure, our primary source of vitamin D, can cause serious health problems. Dr Holick, the discoverer of the active form of vitamin D, has pulled together an impressive body of evidence in support that no one should be - as he puts it - a sunphobe, nor, for that matter, a sun worshipper. His conclusion says that a relatively brief, but unfettered exposure to sunshine and its equivalent can help to ward off a host of debilitating and sometimes deadly diseases, including osteoporosis, cancers of the colon, prostate and breast, hypertension, diabetes, multiple sclerosis, rheumatoid arthritis, and depression."

"Fotodetektor UV berbasis nanostruktur ZnO dengan konfigurasi logam-semikonduktor-logam (MSM) menarik banyak minat karena pembuatannya yang sederhana. Namun, mereka menghadapi masalah seperti laju rekombinasi tinggi dan mobilitas pembawa muatan rendah. Penelitian ini secara menyeluruh mengkaji efek dari paparan UV-O3 selama 15 menit pada struktur ZnO/MoS2. Penambahan nanosheets MoS2 dan UV-O3 treatment secara signifikan meningkatkan seluruh parameter kinerja fotodektektor. ZnO/MoS2UVo menunjukkan hasil yang paling baik, dengan peningkatan enam kali lipat dalam Sensitivitas di bawah cahaya UV dibandingkan dengan ZnO NR murni. Responsivitas, Detektivitas, dan Efisiensi Kuantum juga menunjukkan peningkatan hingga 102%. Peningkatan ini secara umum disebabkan oleh penurunan arus gelap (dark current) setelah penambahan nanosheets MoS2 pada ZnO NR. Penurunan ini mungkin disebabkan oleh pengurangan jumlah kekosongan oksigen ( ) karena terisi oleh atom tepi belerang S dari MoS2. Selain itu, penurunan arus gelap secara lebih lanjut setelah paparan UV-O3 disebabkan oleh semakin berkurangya dalam ZnO. UV-O3 ­treatment memperkenalkan atom oksigen baru, menggantikan atom tepi belerang pada kekosongan tersebut, yang kemudian membentuk lapisan molybdenum oksida (MoO3) pada permukaan ZnO/MoS2. Meskipun demikian, banyaknya sambungan antara ZnO, MoS2, dan MoO3 memperlambat transfer muatan ke elektroda.

---

UV photodetectors based on ZnO nanostructures, using a metal-semiconductor-metal (MSM) configuration, are popular due to their simple fabrication. However, they face issues like a high recombination rate and low charge carrier mobility. This study thoroughly examines the effects of 15 min UV-O3 exposure on the ZnO/MoS2 structure. The integration of MoS2 nanosheets and UV-O3 treatment significantly boosts all performance parameters. ZnO/MoS2UVo displays the most remarkable results, with a six-fold increase in Sensitivity under UV light compared to pure ZnO NR. It also demonstrates up to a 102% enhancement in Responsivity, Detectivity, and Quantum efiiciency. This enhancement is primarily attributed to the decline in dark current after applying a MoS2 coating on ZnO. This decrease is attributed to the reduction of oxygen vacancies ( ) as sulfur edge atoms from MoS2 fill these vacancies. Furthermore, additional dark current reduction post UV-O3 treatment is due to a substantial reduction in oxygen vacancies within the ZnO. The UV-O3 treatment introduces new oxygen atoms, replacing the sulfur edge atoms at these vacancies, forming a molybdenum oxide (MoO3) layer on the ZnO/MoS2 surface. Despite these improvements, the multiple junctions between ZnO, MoS2, and MoO3."