Hasil Pencarian  ::  Simpan CSV :: Kembali

"Penelitian ini mengkaji kinerja UV detektor berbasis ZnO nanorods. ZnO dipilih sebagai material utama karena sifat-sifatnya yang unggul seperti band gap energi yang lebar, mobilitas elektron yang tinggi, dan sensitivitas terhadap sinar UV. Pengembangan UV detektor berbasis ZnO NRs dilakukan untuk mendapatkan material yang terbaik. Pengaruh radiasi UV/Ozone dilakukan untuk memodifikasi sifat-sifat material. Perlakuan UV/Ozone menghasilkan perubahan yang signifikan pada ZnO NRs, seperti modifikasi morfologi, peningkatan kristalinitas, dan efisiensi emisi PL. UV detektor berbasis ZnO NRs dengan UV/Ozone menunjukkan responsivitas yang signifikan dari 0.13 A/W menjadi 0.64 A/W. Peningkatan responsivitas ini juga menyebabkan peningkatan detektivitas dari 0.99×10^10 Jones menjadi 4.46×10^10 Jones. Selain itu sensitivitas dan efisiensi konversi foton ke listrik juga meningkat, dengan hasil terbaik menunjukkan peningkatan sensitivitas dari 25% menjadi 100% dan EQE 43.26% menjadi 216.28%. Hasil ini memberikan wawasan mendalam tentang potensi penerapan radiasi UV/Ozone dalam meningkatkan kinerja detektor UV berbasis ZnO NRs. Implikasinya adalah pengembangan UV detektor yang lebih responsif, sensitif, dan stabil untuk berbagai aplikasi, termasuk pengukuran radiasi UV, sensor lingkungan, dan teknologi fotovoltaik.

---

This research examines the performance of UV detectors based on ZnO nanorods. ZnO is chosen as the primary material due to its superior properties such as wide band gap energy, high electron mobility, and sensitivity to UV light. The development of UV detectors based on ZnO NRs is carried out to obtain the best material. The influence of UV/Ozone radiation is applied to modify the material properties. UV/Ozone treatment results in significant changes in ZnO NRs, such as morphological modifications, increased crystallinity, and enhanced PL emission efficiency. UV detectors based on ZnO NRs treated with UV/Ozone showed a notable increase in responsivity from 0.13 A/W to 0.64 A/W. This increased responsivity also led to an improvement in detectivity from 0.99×10^10 Jones to 4.46×10^10 Jones. Additionally, the sensitivity and the efficiency of converting photons to electricity also improved, with the best results showing an increase in sensitivity from 25% to 100% and EQE from 43.26% to 216.28%. These results provide valuable insights into the potential application of UV/Ozone radiation in enhancing the performance of UV detectors based on ZnO NRs. The implications include the development of more responsive, sensitive, and stable UV detectors for various applications, such as UV radiation measurement, environmental sensors, and photovoltaic technology."

"Fotodetektor UV berbasis nanostruktur ZnO dengan konfigurasi logam-semikonduktor-logam (MSM) menarik banyak minat karena pembuatannya yang sederhana. Namun, mereka menghadapi masalah seperti laju rekombinasi tinggi dan mobilitas pembawa muatan rendah. Penelitian ini secara menyeluruh mengkaji efek dari paparan UV-O3 selama 15 menit pada struktur ZnO/MoS2. Penambahan nanosheets MoS2 dan UV-O3 treatment secara signifikan meningkatkan seluruh parameter kinerja fotodektektor. ZnO/MoS2UVo menunjukkan hasil yang paling baik, dengan peningkatan enam kali lipat dalam Sensitivitas di bawah cahaya UV dibandingkan dengan ZnO NR murni. Responsivitas, Detektivitas, dan Efisiensi Kuantum juga menunjukkan peningkatan hingga 102%. Peningkatan ini secara umum disebabkan oleh penurunan arus gelap (dark current) setelah penambahan nanosheets MoS2 pada ZnO NR. Penurunan ini mungkin disebabkan oleh pengurangan jumlah kekosongan oksigen ( ) karena terisi oleh atom tepi belerang S dari MoS2. Selain itu, penurunan arus gelap secara lebih lanjut setelah paparan UV-O3 disebabkan oleh semakin berkurangya dalam ZnO. UV-O3 ­treatment memperkenalkan atom oksigen baru, menggantikan atom tepi belerang pada kekosongan tersebut, yang kemudian membentuk lapisan molybdenum oksida (MoO3) pada permukaan ZnO/MoS2. Meskipun demikian, banyaknya sambungan antara ZnO, MoS2, dan MoO3 memperlambat transfer muatan ke elektroda.

---

UV photodetectors based on ZnO nanostructures, using a metal-semiconductor-metal (MSM) configuration, are popular due to their simple fabrication. However, they face issues like a high recombination rate and low charge carrier mobility. This study thoroughly examines the effects of 15 min UV-O3 exposure on the ZnO/MoS2 structure. The integration of MoS2 nanosheets and UV-O3 treatment significantly boosts all performance parameters. ZnO/MoS2UVo displays the most remarkable results, with a six-fold increase in Sensitivity under UV light compared to pure ZnO NR. It also demonstrates up to a 102% enhancement in Responsivity, Detectivity, and Quantum efiiciency. This enhancement is primarily attributed to the decline in dark current after applying a MoS2 coating on ZnO. This decrease is attributed to the reduction of oxygen vacancies ( ) as sulfur edge atoms from MoS2 fill these vacancies. Furthermore, additional dark current reduction post UV-O3 treatment is due to a substantial reduction in oxygen vacancies within the ZnO. The UV-O3 treatment introduces new oxygen atoms, replacing the sulfur edge atoms at these vacancies, forming a molybdenum oxide (MoO3) layer on the ZnO/MoS2 surface. Despite these improvements, the multiple junctions between ZnO, MoS2, and MoO3."

"Dalam beberapa tahun terakhir, sistem evaporasi fototermal telah menarik banyak perhatian sebagai solusi yang menjanjikan dalam mengatasi krisis air bersih. Sistem evaporasi fototermal memanfaatkan material fototermal yang dapat mengkonversikan sinar matahari menjadi panas untuk menguapkan air dimana uap air ini akan mengalami kondensasi untuk menghasilkan air bersih. Dalam karya tulis ini, digunakan Molibdenum disulfida (MoS2) sebagai material fototermal karena karakteristiknya yang memiliki spektrum penyerapan yang luas pada daerah cahaya tampak. Dalam upaya pengembanganya, diketahui bahwa MoS2 menunjukkan kinerja fototermal yang sangat baik. Melalui metode sintesis hidrotermal yang relatif sederhana, MoS2 dengan tingkat kemurnian yang tinggi dapat diperoleh. Di samping melakukan pengembangan melalui berbagai metode sintesis, pendekatan lain dapat dilakukan dengan meningkatkan sifat dari MoS2 itu sendiri melalui perlakuan UV/Ozone (UVO). Di sini, kami mengamati pengaruh waktu pemaparan radiasi UVO terhadap struktur, morfologi, sifat optik, dan kinerja MoS2 dalam proses evaporasi air. Hasil pengujian kinerja evaporasi sistem fototermal menunjukkan bahwa sampel MoS2 UVO-50 memiliki laju evaporasi tertinggi, yaitu sebesar 1,74. Laju evaporasi sampel MoS2 UVO-50 memiliki nilai 2,3 kali lebih tinggi apabila dibandingkan dengan laju evaporasi matriks ALP dan 1,27 kali lebih tinggi jika dibandingkan dengan sampel MoS2 tanpa pemberian UVO. Berdasarkan hasil ini, dapat disimpulkan bahwa radiasi UV/Ozone dapat meningkatkan kinerja MoS2 sebagai material fototermal yang dapat menyerap cahaya matahari dengan baik sehingga dapat dimanfaatkan dalam upaya pemerolehan air bersih.

---

In the past few years, photothermal evaporation systems have attracted much attention as a promising solution in overcoming the clean water crisis. Photothermal evaporation systems utilize photothermal materials that are able to convert sunlight into heat in order to evaporate water, in which the generated vapor will eventually experience condensation to produce clean water. In this paper, Molybdenum disulfide (MoS2) is used as a photothermal material due to its nature of having a broad absorption spectrum in the visible light region. In its recent developments, it has been reported that MoS2 shows excellent photothermal performance. Through a relatively simple hydrothermal synthesis method, MoS2 with a high degree of purity can be obtained. Aside from modifying various synthesis methods as an attempt to elevate the system’s efficiency, considering another approach by improving the properties of MoS2 itself can be just as effective through implementing the UV/Ozone (UVO) treatment. Here, we observe the effect of the UVO treatment on the structure, morphology, optical properties, and the performance of MoS2 as a photothermal material during the process of water evaporation. The result of the evaporation performance evaluation shows that MoS<2 UVO-50 is able to produce the highest evaporation rate, which is 1.74. This number is 2.3 times higher when compared to its ALP matrix’s evaporation rate and 1.27 times higher than the evaporation rare of the sample that was not given the UVO treatment. Based on these results, it can be concluded that the UV/Ozone treatment has succeeded in improving the performance of MoS2 as an excellent sunlight absorber which can be utilized to ensure fruitful efforts in producing clean water."

"Dalam menghadapi masalah pencemaran udara dan kerusakan lingkungan, energi hidrogen dapat menjadi salah satu solusi energi terbarukan atas permasalahan tersebut. Berbagai cara dapat dilakukan dalam memproduksi hidrogen, salah satu metode yang umum digunakan adalah dengan pemecahan air elektrokimia. Pemanfaatan logam mulia untuk pemecahan air elektrokimia diketahui akan menghasilkan performa katalitik terbaik namun, biayanya yang mahal mendorong para peneliti untuk mencari alternatif bahan pengganti atas logam mulia. Melalui penelitian ini, kami berhasil mensintesis sampel MoS2 yang ditumbuhkan di atas kain karbon (MoS2/CC) pada suhu 200 selama 8 jam dengan metode hidrotermal. Sampel tersebut kemudian dimodifikasi dengan melakukan penyinaraan UV/Ozone di atas permukaan sampel. Melalui perlakuan tersebut, diperoleh hasil yaitu penyinaran UV/Ozone selama 50 menit dapat meningkatkan aktivitas katalitik Hydrogen Evolution Reaction (HER) di mana grafik linear sweep voltammetry (LSV) menunjukkan nilai onset potensial sebesar 122 mV. Nilai tersebut sangat meningkat bila dibandingkan dengan nilai onset potensial MoS2/CC tanpa penyinaran UV/Ozone, yakni hanya sebesar 193 mV. Kemudian, adanya penyinaran UV/Ozone selama 50 menit pada sampel juga menurunkan nilai resistansi transfer muatan (Rct) hingga tiga kali lipat bila dibandingkan dengan tanpa penyinaran UV/Ozone. Selain itu, adanya penyinaran UV/Ozone pada MoS2/CC juga mengindikasikan adanya perubahan struktur permukaan dengan potensi terbentuknya fasa baru di permukaan sampel, yaitu dari fasa 2H-MoS2 menjadi fasa α-MoO3.

---

In the face of air pollution and environmental damage, hydrogen energy is considered one of the renewable energy solutions to address these issues. There are various methods for hydrogen production, and one commonly used method is electrochemical water splitting. The utilization of noble metals in electrochemical water splitting is known to provide the best catalytic performance, but the high cost of these metals has driven researchers to seek alternative materials. Through this research, we successfully synthesized MoS2 that grown on a carbon cloth (MoS2/CC) at 200℃ for 8 hours by hydrothermal method. The sample was then modified by UV/Ozone irradiation on the surface of the sample. As a result, the UV/Ozone irradiation for 50 minutes improved the catalytic activity of the material for the Hydrogen Evolution Reaction (HER), as evidenced by the linear sweep voltammetry (LSV) graph showing an onset potential value of 122 mV. This value significantly increased compared to the onset potential of MoS2/CC without UV/Ozone irradiation, which was only 193 mV. Furthermore, the UV/Ozone irradiation for 50 minutes on the sample also reduced the charge transfer resistance (Rct) value by up to three times compared to the sample without UV/Ozone irradiation. Additionally, the UV/Ozone irradiation on MoS2/CC indicated a change in surface structure, with the potential formation of a new phase on the sample surface, transitioning from the 2H-MoS2 phase to α-MoO3 phase."

"Mahalnya harga sebuah UV-photolithography aligner di pasaran menjadi sebuah alasan untuk merancang dan mengkarakterisasi UV-photolithography aligner berbiaya murah. Proses photolithography yang sederhana tapi perlu ketelatenan, memungkinkan untuk memodifikasi photolithography aligner dengan cara menggunakan komponen-komponen komersial dan tentu saja harganya murah. Tujuan penelitian ini adalah menganalisa kemampuan produk komersial dalam proses UV-photolithography, mencari waktu exposure dan resolusi optimum. Metoda proses photolithography yang digunakan adalah metoda kontak. Lampu UV komersial dan photomask yang murah merupakan komponen utama dalam penelitian ini. Dengan intensitas cahaya 0,2 mW/cm2 memerlukan waktu exposure minimal 50 detik. Waktu exposure optimum tergantung dari pada bahan photomask. Resolusi terkecil yang dicapai tergantung resolusi photomask. Hasil resolusi terkecil adalah 165 µm dengan persentase penyimpangan 10 % terhadap desain awal.

---

The high price of a UV-photolithography aligner on the market is the reason for designing and characterize low cost UV-photolithography aligner. Photolithography process is simple but it needs patience, enable to modify photolithography aligner by using commercial components and certainly low price. The objective of this study is analyzing the ability of a commercial product in UV-photolithography process, search optimum exposure time and resolution. The method of photolithography process to be used is the method of contact alignment. Commercial UV lamps and cheap photomask are main component in this study. With a light intensity of 0.2 mW/cm2 require the exposure time at least 50 seconds. The smallest achievable resolution depends on the resolution photomask. The Results of smallest resolution is 165 µm with a percentage error 10% of the original design."

"Latar belakang: Pajanan MEK dan sinar Ultraviolet dibagian Cementing (pengeleman) dapat mengganggu kesebatan, khususnya kesehatan mata pekelja. Jumlab kasus Konjungtivitis di klinik perusabaan yang selalu masuk !islam sepulub penyakit tetbanyak, sangat meumlk unlak diteliti lebih jauh, apakab kasus konjungtivitis yang terjadi di Perusahaan P sebagai akibat pekerjaan atau bukan sebagai akibat pekerjaan.Merode: Menggunaken metude studi pre dan post, dimana dilakukan intervensi dengan menggunakan chemical goggles. Semua pekerja dibagian Cementing (pengeleman) sejumlan 44 orang yang terpajan uap MEK drul sinar Ultraviolet diikutsertakan dalam penelitian ini. Pengumpulan data dilakukan dengan wawancara, pengisian kuesioner dan informed oleh pekelja dan pemeriksan fisik dan status kesehatan mata oleh dokter pemeriksa (bukan peneliti). Pada analisis data dinilai apakeh goggles dapat menurunkan jumlab kasus Konjungtivitis AkibatKerja.Hasil: Jumlab kasus Konjungtivitis Akibat Kerja sebelum penmkaian goggles 59.1% drul pada saat pentakaian goggles 56.8%. Penggonaan goggles pada penelitian ini menjadi kurang efektif disebabkan ketidakdisiplinan responden (68.2%) melepaskan goggles pada waktu bekerja. Ketidakdisiplinan disebabkan karena tingkat pendidikan responden terbesar tarnat SD-SMP sehingga kesadaran akan kesebatan kurang dan juga ketidaknyamanan (70.4%) sehingga responden sering melepaskan gogglesnya. Ketidaknyamanan didnkung dengan suhu lingkangan yang tinggi. Secara statistik tidak ditemukan hubungan yang barmakua (p> 0.05) antam faktor resiko untuk variabel umur, masa kerja, tinggl mata saat duduk, pendidikan dan kesehatan mata ( tes Schirmer) dengan terjadinya Konjungtivitis akibat kerja. Dari analisis uji Me Nemar diperoleb basil dimana tidak ada perbedaan jumlah kasus konjungtivitis sebalum dan setelab penggonaan chemical goggles pada peke!ja yang terpajan uap Metil Etil Keton drul sinar Ultraviolet.Kesimpulan: tidak terdapat perbedaan jumlab kesus konjungtivitis akibat kelja sebelum dan setelab penggunaan chemical goggles pada peke!ja yang terpajan palarut organik Metil Etil Keton dan sinar Ultraviolet dikarenakan ketidakdisiplinan di lingkungan kerja yang panas.

---

Background: exposure to MEK and UV mys at cementing division may cause various health problem, especially to the eyes of workers. It is very interesting subject to be studied that the incidence of conjunctivitis in company clinic always be among the most top ten diseases. Have the conjunctivitis occurred because of their job or not?Methods: study was conducted by pre and post design in which post study, respondents were interfered by using chemical goggle. Forty four workers who exposed to MEK and UV miss at cementing division plant 5 were included in tills study. Data was collected by interviewing, questionnaire, physical examination and eyes examination. Analyses of the data had done to assess whether the goggle could reduce the incident of occupation.al conjunctivitis.Results: Not having worn the goggle, the incidence of conjunctivitis among respondents was 59.1 %. Having worn the goggle the incidence of conjunctivitis among respondents was 56.&%. One of the reason was that respondents had not been discipline to wear the goggle. It was happened because most of respondents had have low educational level (elementary and junior high school) that influence to their health awareness. Respondents were also often to release the goggles {70.4%) because the use of goggles had been not convenient. That inconvenient could be result in the temperature so it is necessary to improve working environment. There was no significant relationship (p> 0.05) between risk factors for the variable of age, length of work, height level of the eyes when sitting, education level and health condition of the eyes (shimmer test) with occupational conjunctivitis. Using Me Nemar 1est obtained that there was no significant differences between pre and post the use of chemical goggle on workers who exposed to MEK and UV rays.Conclusions: This study couldn't prove the hypothesis that there had been differences on incideoce of occupational conjunctivitis between pre and post the use of chemical goggle on workers who had exposed to MEK and UV rays."

"Sunshine is good for you! While too much sun causes wrinkles and raises other health concerns, a lack of sun exposure, our primary source of vitamin D, can cause serious health problems. Dr Holick, the discoverer of the active form of vitamin D, has pulled together an impressive body of evidence in support that no one should be - as he puts it - a sunphobe, nor, for that matter, a sun worshipper. His conclusion says that a relatively brief, but unfettered exposure to sunshine and its equivalent can help to ward off a host of debilitating and sometimes deadly diseases, including osteoporosis, cancers of the colon, prostate and breast, hypertension, diabetes, multiple sclerosis, rheumatoid arthritis, and depression."

"ABSTRAKProses pengelasan merupakan salah satu sumber sinar UV buatan manusia Pemaparan radiasi sinar UV pada pekerja las bila tidak dikendalikan/dibatasi dapat menimbulkan efek kesehatan yang merugikan. Akibat dari sinar UV antara lain terhadap mata, yang dapat menyebabkan peradangan selaput mata, selaput bening, dan peradangan kelopak mata, biasa disebut "welder's flash" atau "arc eye".Tujuan penelitian ini adalah untuk mengetahui tingkat radiasi sinar UV dan beberapa faktor yang berhubungan dengan keluhan mata "welder's flash". Faktor faktor yang diteliti adalah tingkat radiasi efektif alat las, lingkungan kerja, lama pemaparan, dan pemakaian alat pelindung diri. Penelitian ini bersifat deskriptif analitik dengan pendekafan Crossectional, yang dilakukan terhadap 98 pekerja las dari 2 sentry industri kecil yaitu Perkampungan Industri Kecil (PIK) dan Santa. Usaha/ndustri Kecil (MK) Pulogadung Jaktim. Dari hasil penelitian diketahui tingkat radiasi efektif berkisar antara 120 - 4580 μW/cm2 . Tingkat radiasi terbanyak antara 300-3000 μW/cm2 , yang berdasarkan NAB ACGIH exposure level hanya boleh 1-10 detik tanpa alat pelindung diri. Prevalensi keluhan mata welder's flash (tiga bulan terakhir) adalah 62,2%. Dengan jumlah keluhan berkisar 1 sampai 3 kali. Jenis proses las terbukti berhubungan dengan tingkat radiasi efektif (p<0,05). Kuat arcs (amper) berhubungan dengan tingkat radiasi efektif dengan pola hubungan linier positif (r=0,44, R2=0,21, p<0,05). Diameter kawat las berhubungan dengan tingkat radiasi dengan pola hubungan linier positif (r=0,53, R2 =0,27, p<0,05). Lokasi kerja (indoor,outdoor) terbukti berhubungan dengan tingkat radiasi efektif (F=7,25, p<0,05). Cat dinding tidak terbukti berhubungan dengan radiasi efektif (P=0,61, p> 0,05). Jarak dinding dengan alat las tidak terbukti berhubungan dengan radiasi efektif (t=-0,75,p>0,05). Tingkat radiasi efektif berhubungan dengan keluhan mata (X2=11,54 p<0,05). Pemakaian APD tidak baik ada 40,8%. Pemakaian APD terbukti berhubungan dengan keluhan mata (X2=4,80,p<0,25). Lama pemaparan berkisar antara 90-400 menit perhari dan terbukti berhubungan dengan keluhan mata (X2=1,92, p< 0,25). Model regresi linier ganda radiasi efektif sbb : Y = 246,87-2,94(amper)-293,47(kawat)+560, 66(proses)+77,62(lokasi kerj a)+12,52(amperxpros)+5,56(amperx kawat), 0,-47,93, R2=0,86, Re .= 0,85). Model regresi logistic keluhan mata sbb : Logit p(x) = -1,9647+2,21(T_RAD)+1,16(APD)+0,46(L EXPOS) dengan (X2= 18,09, p< 0,05). Nilai Odds Ratio (95% Confident Interval) tingkat radiasi = 9,1 (2,16-38,32), pemakaian APD = 3,2(1,20-8,51), lama pemaparan =1,6 (0,59-18,98). Melihat keadaan tersebut di atas, maka perlu diadakan upaya pelayanan kesehatan dan keselamatan kerja, serta perlu upaya pengawasan dan pembinaan K3 di industri kecil las.

---

ABSTRACT

Welding process is a source of UV radiation created by human made. Exposure to UV radiation from the welding arc can result a serious health problems to the welder, and impact of UV ray on the eyes is inflammatory of conjungtivita, cornea and eyelid, also known as "welder's flash" or "arc eye".

The objectives of this research were to identify the level of UV radiation and several factors related welder's flash eye complaints. Several factors in research of this study were the level of effective irradiance (eflr), welding process, the current levels used (ampere), welding rod diameters, working station, length of exposures, and the use of personal protective equipment (PPE). The research was descriptive analysis with crossectional approach, which was conducted to 98 welders in 2 centers of small scale welding industry called Perkampuagan Industri Kecil (PIK) and Sentra Usaha Industri Kecil (SUM) Pulogadung Jakarta Timur.

The results of this research showed that the level of effective irradiance were arround 120 - 4580 µW/cm2. Mostly the level of ef.irr were between 300 -3000 µW/crn2, based on TLV ACGH exposure level allow only 1-10 second without PPE.

The prevalence of welder's flash eye complaints (for late 3 month) was 62,2% with amount of frequency around 1 - 3 times.

There was significant association between the type of welding process and the level of effective irradiance (p<0,05). The current levels used (ampere) was proved significant association with the eff.lrr, by the type of relation was liner positive (r 0,44, R2=0.36,pcz0.05), and also was Welding rod diameters with efIR, by the type of relation was linier positive (r 0.53,R2=0,27,p<0.05). Places of working station (indoor/semi, outdoors) were proved significant association with level of efIrr (F=7.25,p<0.05). There was no significant association between wall painting and e£Irr. (F=0.61,p?0.05), and also no significant association between distance of wall and welding equipment with e£Lr. (t=0.75,p>0.05). From 98 of welders , there were 40.8% bad uses for PPE. Using PPE was proved significant association with the welder's flash eye complaints (X2=4.80,p<0.25)_ Length of exposure were between 90-400 minutes per days and it's proved significant association with welder's flash eye complaints.(X2=2.14,p<0.25).

Using multiple linear regression analysis, the fit model of eflrr prediction was Y=246.87-2.94(amp er)-93.47(kawat)+5 60.66(proses)+77.62(lokasi kerj a)+12.5 2 (amperxproses)+5.56(amperxkawat), (r'193,R2=0.86, Ra=0.85). Using multiple logistic regression, the fit model of welder's flash eye complaints prediction was ' : Logit p(x) = -1.9647+2.21(level of e£Tr) +1.16(PPE) + 0.46(length of exposure) with (X2=18.09, p<0.05). Value of Odds Ratio(95% Confident Interval) level of efective irradiance = 9.1(2.16-38.32), using PPE = 3.2(1.20-8.51), length of exposure = 1.6(0.59-18.98).

By looking for the reasons above, it is important to conduct the occupational health services, and necessary to control and establish safety practices in welding small scale industry."

"Kemampuan menghadapi cekaman abiotik, termasuk radiasi UV-B menentukan kemampuan kolonisasi tumbuhan invasif Synedrella nodiflora (L.) Gaertn. yang tumbuh di tempat ternaung dan terbuka. Synedrella nodiflora diduga toleran terhadap intensitas UV-B yang relatif tinggi. Peningkatan ekspresi gen-gen penyandi Heat Shock Protein 70 (Hsp70) merupakan salah satu respons pertahanan tumbuhan terhadap cekaman UV-B. Oleh sebab itu, perlu dilakukan penelitian untuk membandingkan tingkat ekspresi gen penyandi Hsp70 di sitoplasma, mitokondria, dan plastida (Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2) pada daun Synedrella nodiflora terhadap kondisi lingkungan dengan intensitas radiasi UV-B yang berbeda. Penelitian dan pengukuran faktor lingkungan dilakukan di area kampus Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam, Universitas Indonesia, Depok. Real-time PCR digunakan untuk kuantifikasi cDNA Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2. Kuantitas cDNA tiap gen dinormalisasi terhadap gen TUB sebagai reference gene. Tingkat ekspresi gen relatif dianalisis dengan metode Pfaffl. Lokasi kontrol, ternaung, dan terbuka secara berturut-turut memiliki rerata intensitas radiasi UV-B sebesar 18,4 ± 0,1, 44,1 ± 0,6, dan 260,1 ± 78,3 mW/m2. Daun S. nodiflora dari lokasi ternaung memiliki tingkat ekspresi gen Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2 yang meningkat 85,54; 2,41; dan 30,58 kali relatif terhadap TUB. Daun dari lokasi terbuka memiliki tingkat ekspresi gen Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2 yang meningkat 2,01, 9,46, dan 2,50 kali relatif terhadap TUB. Tingkat ekspresi Hsp70 dan cpHsc70-2 relatif lebih tinggi pada daun yang dikoleksi dari lokasi ternaung, sedangkan mtHsc70-1 relatif lebih rendah. Sebaliknya, tingkat ekspresi Hsp70 dan cpHsc70-2 relatif lebih rendah padadaun yang dikoleksi dari lokasi terbuka, sedangkan mtHsc70-1 relatif lebih tinggi. Synedrella nodiflora di lokasi terbuka diduga telah teraklimatisasi terhadap kondisi lingkungan dengan suhu, intensitas cahaya, dan intensitas UV-B yang relatif lebih tinggi. Hal tersebut menyebabkan S. nodiflora di lokasi terbuka mengalami peningkatan suhu, intensitas cahaya, dan intensitas UV-B minimum yang dibutuhkan untuk menginduksi peningkatan ekspresi gen Hsp70 dan cpHsc70-2. Gen Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2 memiliki pola ekspresi yang berbeda pada kondisi lingkungan tumbuh Synedrella nodiflora, baik kondisi ternaung maupun terbuka (intensitas radiasi UV-B yang berbeda). Tingkat ekspresi Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2 diduga juga dipengaruhi oleh faktor lain, di antaranya suhu dan intensitas cahaya.

---

The ability to deal with abiotic stresses, including UV-B radiation determines the colonizing ability of an invasive plant species, Synedrella nodiflora (L.) Gaertn. that grows in shaded and open places. Synedrella nodiflora may possibly tolerant to relatively high UV-B intensity. Increased expression levels of genes encoding Heat Shock Protein 70 (Hsp70) are one of the plant defense responses against UV-B stress. Therefore, the study aimed was to compare expression levels of genes encoding cytosolic, mitochondrial, and plastid Hsp70 (Hsp70, mtHsc70-1, and cpHsc70-2) in Synedrella nodiflora leaves against environmental conditions with different UV-B radiation intensities. Research and measurement of environmental factors were carried out in Faculty of Mathematics and Natural Sciences campus area, Universitas Indonesia, Depok. Real-time PCR was used to quantify Hsp70, mtHsc70-1, and cpHsc70-2 cDNA. cDNA quantity of each gene was normalized to TUB gene as reference gene. Relative gene expression levels were analyzed using Pfaffl method. Average UV-B intensity radiation in control, shaded, and open locations were 18,4 ± 0,1, 44,1 ± 0,6, and 260,1 ± 78,3 mW/m2, respectively. Synedrella nodiflora leaves from shaded location had Hsp70, mtHsc70-1, and cpHsc70-2 expression levels that increased 85,54; 2,41; and 30,58-fold relative to TUB. Leaves from open location had Hsp70, mtHsc70-1, and cpHsc70-2 expression levels that increased 2,01, 9,46, dan 2,50-fold relative to TUB. Expression levels of Hsp70 dan cpHsc70-2 were relatively higher in leaves that collected from shaded location, while mtHsc70-1 was relatively lower. Inversely, expression levels of Hsp70dan cpHsc70-2 were relatively lower in leaves that collected from open location, while mtHsc70-1 was relatively higher. Synedrella nodiflora in open location is possibly have acclimatized to environmental conditions with relatively higher temperature, light intensity, dan UV-B intensity. This acclimatization caused S. nodiflora in open location experienced an increase in minimum temperature, light intensity, and UV-B intensity required to induce an increase in Hsp70 dan cpHsc70-2 gene expression. The Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2 genes have different expression patterns under growth conditions of S. nodiflora, both shaded and open conditions (different UV-B radiation intensities). The expression levels of Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2 may also influence by another factors, including temperature and light intensity."

"Ketahanan warna merupakan parameter penting pada aplikasi cat. Penelitian ini bertujuan untuk mempelajari proses kinetika degradasi warna akibat paparan sinar UV serta agar mengetahui lamanya ketahanan warna cat dan besar nilai perubahan warna yang dihasilkan dari Kopolimer Stirena MMA. Kopolimer Stirena MMA sebagai aplikasi cat diuji dengan variasi temperatur, waktu, dan pigmen. Data diperoleh menunjukkan bahwa Kopolimer Stirena MMA sebagai aplikasi cat dengan penambahan pigmen 3% dan 10% lebih tahan dalam menahan sinar UV dengan perubahan warna yang tidak terlalu besar ΔE ≤ 3 sedangkan Kopolimer Stirena MMA tanpa pigmen dan pigmen 5% mengalami perubahan warna yang signifikan setelah penyinaran UV selama 50 jam dan pada temperatur 50℃. Berdasarkan hasil pengukuran, kinetika degradasi warna mengikuti persamaan Avrami yang menunjukkan bahwa semakin tinggi kenaikan temperatur maka semakin cepat laju degradasi. Energi aktivasi rendah mempengaruhi laju degradasi pigmen 3% dan pigmen 5% menjadi lebih cepat dibandingkan dengan penelitian tanpa pigmen dan pigmen 10%.

---

Color durability is an important parameter in paint application. This research aims to study the kinetics of color degradation due to exposure to UV light and to determine the length of color retention and the magnitude of the color change resulting from Styrene MMA Copolymer. Styrene MMA copolymer as a paint application was tested with variations in temperature, time and pigment. The data obtained shows that MMA Styrene Copolymer as a paint application with the addition of 3% and 10% pigment is more resistant to UV rays with color changes that are not too large ΔE ≤ 3 while MMA Styrene Copolymer without pigment and 5% pigment experience significant color changes after that UV copying for 50 hours and at a temperature of 50℃. Based on the measurement results, the color degradation kinetics follow the Avrami equation which shows that the higher the temperature rise, the faster the degradation rate. Low activation energy influences the degradation rate of 3% pigment and 5% pigment to be faster compared to studies without pigment and 10% pigment."