Hasil Pencarian  ::  Simpan CSV :: Kembali

Hasil Pencarian

Ditemukan 4 dokumen yang sesuai dengan query
cover
Universitas Indonesia, 2006
TA1524
UI - Tugas Akhir  Universitas Indonesia Library
cover
Fahrul Islam
"Kromium adalah logam berat yang banyak digunakan dalam kegiatan industri. Penggunaan kromium pada industri pelapisan logam dapat berisiko terhadap kesehatan pekerja yang berasal dari pajanan kromium di udara lingkungan kerja. Penelitian ini bertujuan untuk menganalisis hubungan kadar kromium dalam urin dengan kadar albumin dalam urin sebagai biomarker kerusakan ginjal. Penelitian ini dilakukan pada 33 pekerja terpajan dan 33 pekerja tidak terpajan dengan sedain cross sectional. Sampel urin diambil untuk menilai kadar kromium dan kadar albumin. Kadar kromium dalam urin diukur menggunakan metode metode Atomic Absorption Spectrometry (AAS) dengan teknik pembakaran (flame, FAAS) dan kadar albumin dalam urin di ukur dengan cara immunoturbidimetric assay. Nilai tengah (median) kadar kromium dalam urin pada pekerja terpajan sebesar 5 μg/L dan pada pekerja tidak terpajan juga sebesar 5 μg/L. Nilai tengah (median) kadar albumin dalam urin pada pekerja terpajan sebesar 2,5 mg/g kreatinin lebih tinggi dari kadar albumin pada pekerja tidak terpajan yaitu sebesar 1,5 mg/g kreatinin. Setiap kenaikan kadar kromium 1 μg/L terjadi kenaikan kadar albumin sebesar 3,82 mg/g kreatinin setelah dikontrol variabel riwayat diabetes, riwayat hipertensi, kebiasaan merokok, lama kerja, dan konsumsi alkohol. Hasil penelitian dapat disimpulkan ada pengaruh pajanan kromium dengan gangguan fungsi ginjal (p > 0,05).

Chromium is a heavy metal that is widely used in industrial activities. Use of chromium in the metal plating industry pose a risk to workers' health comes from exposure to chromium in the air working environment. This study aimed to analyze the relationship between chromium levels in urine levels of albumin in the urine as a biomarker of kidney damage. This study was conducted on 33 workers exposed and 33 unexposed workers with cross sectional sedain. Urine samples were taken to assess levels of chromium and albumin. Chromium levels in urine were measured using the method Atomic Absorption Spectrometry (AAS) with burning techniques (flame, FAAS) and albumin in urine is measured by means of immunoturbidimetric assay. A middle value (median) level of chromium in the urine of workers exposed at 5 g / L and the unexposed workers are also at 5 ug / L. A middle value (median) level of albumin in the urine in workers exposed at 2.5 mg / g creatinine higher than the levels of albumin in the unexposed workers is equal to 1.5 mg / g creatinine. Any increase in the chromium content of 1 ug / L occurred rising levels of 3,82 mg albumin / g creatinine after the controlled variable history of diabetes, history of hypertension, smoking habits, length of employment, and consumption of alcohol. The results of this study concluded there was an effect of chromium exposure with impaired renal function (p> 0.05).
"
Depok: Fakultas Kesehatan Masyarakat Universitas Indonesia, 2016
T-Pdf
UI - Tesis Membership  Universitas Indonesia Library
cover
Mattotorang, Ammar Shidqi
"Penelitian ini bertujuan untuk merancang dan membangun sistem pelapisan logam menggunakan metode plasma sputtering, salah satu metode deposisi uap fisik (PVD) yang memanfaatkan ionisasi gas argon untuk membombardir target logam, sehingga atom-atom logam terlepas dan mengendap pada substrat yang akan dilapisi. Sistem yang dirancang terdiri dari ruang vakum, sumber tegangan tinggi, dan sistem pengaturan gas. Ruang vakum diperlukan untuk menjaga kestabilan plasma dan meminimalkan kontaminasi. Sumber tegangan tinggi digunakan untuk menghasilkan plasma dengan energi yang cukup untuk proses sputtering, dan pengaturan gas argon dilakukan untuk memastikan konsentrasi yang optimal selama proses berlangsung.

Hasil penelitian menunjukkan bahwa sistem pelapisan dengan metode plasma sputtering telah berhasil dibangun. Dalam waktu 7,5 menit, tabung vakum dapat mencapai tekanan terendah sebesar 1887 mikron. Plasma mulai tampak pada tabung vakum saat tekanan 37500 mikron dengan tegangan sebesar 12500 Volt. Dengan tegangan 2500 Volt, plasma mulai tampak pada tekanan 19827 mikron. Glow discharge plasma dapat terjadi pada tekanan 4082 mikron. Meskipun endapan tembaga hasil sputtering tidak ditemukan pada substrat, endapan ditemukan pada besi anoda. Nilai hambatan pada kaca preparat sebelum dan sesudah sputtering adalah OL (overload), sedangkan nilai hambatan pada besi anoda berubah dari 0,3 Ohm menjadi 1,8 Ohm, menunjukkan adanya endapan pada besi anoda.


This research aims to design and build a metal coating system using the plasma sputtering method, a physical vapor deposition (PVD) technique that utilizes argon ionization to bombard the metal target, causing metal atoms to be released and deposited on the substrate to be coated. The designed system consists of a vacuum chamber, a high voltage source, and a gas control system. The vacuum chamber is necessary to maintain plasma stability and minimize contamination. The high voltage source is used to generate plasma with sufficient energy for the sputtering process, and the argon gas control ensures optimal concentration during the process. The research results indicate that the metal coating system using the plasma sputtering method has been successfully built. Within 7.5 minutes, the vacuum chamber achieved a minimum pressure of 1887 microns. Plasma appeared in the vacuum chamber at a pressure of 37500 microns with a voltage of 12500 Volts. At a voltage of 2500 Volts, plasma appeared at a pressure of 19827 microns. Glow discharge plasma occurred at a pressure of 4082 microns. Although copper deposition from sputtering was not found on the substrate, deposition was found on the iron anode. The resistance values on the glass slide before and after sputtering were 0L (overload), while the resistance value on the iron anode changed from 0.3 Ohms to 1.8 Ohms, indicating deposition on the iron anode."
Depok: Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam Universitas Indonesia, 2024
S-pdf
UI - Skripsi Membership  Universitas Indonesia Library
cover
Fahrul Islam
"Kromium adalah logam berat yang banyak digunakan dalam kegiatan industri. Penggunaan kromium pada industri pelapisan logam dapat berisiko terhadap kesehatan pekerja yang berasal dari pajanan kromium di udara lingkungan kerja. Penelitian ini bertujuan untuk menganalisis hubungan kadar kromium dalam urin dengan kadar albumin dalam urin sebagai biomarker kerusakan ginjal. Penelitian ini dilakukan pada 33 pekerja terpajan dan 33 pekerja tidak terpajan dengan sedain cross sectional. Sampel urin diambil untuk menilai kadar kromium dan kadar albumin. Kadar kromium dalam urin diukur menggunakan metode metode Atomic Absorption Spectrometry (AAS) dengan teknik pembakaran (flame, FAAS) dan kadar albumin dalam urin di ukur dengan cara immunoturbidimetric assay. Nilai tengah (median) kadar kromium dalam urin pada pekerja terpajan sebesar 5 μg/L dan pada pekerja tidak terpajan juga sebesar 5 μg/L. Nilai tengah (median) kadar albumin dalam urin pada pekerja terpajan sebesar 2,5 mg/g kreatinin lebih tinggi dari kadar albumin pada pekerja tidak terpajan yaitu sebesar 1,5 mg/g kreatinin. Setiap kenaikan kadar kromium 1 μg/L terjadi kenaikan kadar albumin sebesar 3,82 mg/g kreatinin setelah dikontrol variabel riwayat diabetes, riwayat hipertensi, kebiasaan merokok, lama kerja, dan konsumsi alkohol. Hasil penelitian dapat disimpulkan ada pengaruh pajanan kromium dengan gangguan fungsi ginjal (p > 0,05).

Chromium is a heavy metal that is widely used in industrial activities. Use of chromium in the metal plating industry pose a risk to workers' health comes from exposure to chromium in the air working environment. This study aimed to analyze the relationship between chromium levels in urine levels of albumin in the urine as a biomarker of kidney damage. This study was conducted on 33 workers exposed and 33 unexposed workers with cross sectional sedain. Urine samples were taken to assess levels of chromium and albumin. Chromium levels in urine were measured using the method Atomic Absorption Spectrometry (AAS) with burning techniques (flame, FAAS) and albumin in urine is measured by means of immunoturbidimetric assay. A middle value (median) level of chromium in the urine of workers exposed at 5 g/L and the unexposed workers are also at 5 ug/L. A middle value (median) level of albumin in the urine in workers exposed at 2.5 mg/g creatinine higher than the levels of albumin in the unexposed workers is equal to 1.5 mg/g creatinine. Any increase in the chromium content of 1 ug/L occurred rising levels of 3,82 mg albumin/g creatinine after the controlled variable history of diabetes, history of hypertension, smoking habits, length of employment, and consumption of alcohol. The results of this study concluded there was an effect of chromium exposure with impaired renal function (p> 0.05).
"
Depok: Fakultas Kesehatan Masyarakat Universitas Indonesia, 2016
T53841
UI - Tesis Membership  Universitas Indonesia Library