Prjoses pemisahan merupakan .vuam pr0.ve.s' yang selalu ada pada .veriap Icegialan induslri manzgfaklur. Proses pemisalzan rersebu! biasanya menggunakan sebuah komponen yang bernama membran, dimana membran Iersebur harus mampu memisahkan za!-za! alau unsur-unsur apa saja yang dflrehendaki. Maka dari ilu dibutuhkan suaru Icomponen unluk pemisahan yang terbuar dari material yang memililci perayararan yaitu mempunyai pori-pori yang sesuai yang be179/ngsi sebagai membran saringan (menahan yang mcmpunyai ukw-an Iebih besar duri pori dan melewarkan yang mempunyai ukuran Iebih kecil dariporU, memiliki ketangguhan yang memadai ( karena selama proses pemisahun ada rekanan yang bekeaja), dan memiliki Icemhanan terhadap temperatur tinggi ( karena pada bebcrapa aplikasi, fa.s'a;fa'.s'a yang dzpisahkan memiliki remperatur ringgU. Malta material yang dupat memenuhi memenuhi kriteria diatas adalah marerial keramiln Karena keramik memiliki porijnori yang dapat dyadikan ?saringan keiahanan rerhadap lekanan linggi dan kerangguhan yang mcnzadai.
Material keramik lfonvensional memiliki ukuran porosiras yang besan se/zingga tidal: dapar digunakan umul: proses pcmisahan gas. Di dalam penelirian ini keramik sinteris yang dig-unakan berasal dari Iamran Ten-aefhy! Orfhosilicare (TEOQ, dimana nantinya serelah dqrroses lebilz Ianjuf, Iarutan ini akan membenzuk .ml gel serrymva SiO; _ Namun yang mcrgiadf perbedaan, SiO; yang :erberztuk pada reaksi terxebur memililci ukurarz porosizas yang sangat kccil dibandinglcan SiO;lcon vensionai. So! ge! ini kemudiun dilapiskan pada .vebuah keramik S 50,-» biaxa. Yang meryadi fokus penelitian adalah karalderisrik dari lapisan yang rerbe/#fuk derzgan variabe! kecepatcn penarikan §lI6f0dC dlp coating).Hasil penelirian menumy'u.{'/can bahwa dengan penambahcm keceparan penarikan dari 10,66 mm/mnr, 25 mm/mnr, 50 nmvhvnr dan 100 mnVmn!, malca kercbulan lapisan akan sema/:in meninglcar dari 8,24; 17,41 ,' 45,23; sampai 51,66 pm. Scdanglran nilaf kekasaran akan rurnn dengan meningkamya keceparan penarflcan , dirunjuldcarz derzan menurunnya nilai Ra dari 1,28-4; I, I 56; I, 18; sampai 0,808. Sedangkan nilai kekerasan mikro akan menurun bail: sebeium diden.s'57i1casi rnaupzm serelah dfdensyikasi dengan suhu 200° Cefcius selam 2 jam. Sebefum didewyikasi, nilai kekerasannya menurzm dari 309, 186, HS, .sampai 183 VHN _ Serelah didensyilcasi kekerasan milzro akan menurun dari 348, 276, 159, sampai 115 VHN . Didaparkan juga dari hasil pengamntan XRD bahwa Iapisan TEOS rersebu! berswt amorf.
Separation process is one ofthe most irmoortant process and always be needed in the modern industrial manujirtcturing. This process is usuallly using a component named membrane, which is that component has a capability to separate wanted.subtances or essences. Therefore it is needed to be discover a component that made from a material which is has an appropriate pore size for a filter membrane (to hold the particle which is bigger than pore size and to let the particles which is smaller than pore size pass trough the membrane), has an appropriate toughness ( there is high pressure working in the separation process), and has a high tennaerature resistance (for some application, it has to be in a high temperature). Therefore the ideal material _to match with those criterias is ceramic. Because ceramics has pores that can be uused as a 'ffilter", resistance of high temperature and an appropriate touhgness.The problem isa conventional ceramics have big pore stee, that ineans it can not be used for gasses separation process. In this research we use a sintetic ceramics, derived from T etraethyl Ortosilicate( TEOS) solution, later on ajer several advanced process, this solution will form SiO; soi gel. The advantage ofthis sinteric ceramic is in the pore size, we can get material which is has very small size of pores. This sol gel then will be coated to a conventional ceramic as ft substrate. lite focus of this research is investigating the characteristic of layer formed with variable of the withdrawal speed (dlp coating methoth.This reasenrch 's resulting that with thc increase ofthe withdrawl spcedjrom 10,66 mm/mnt, 25 mm/mnt, 50 mm./mnt to 100 mln/mnt, the thickness ofthe layer is also increase #om 8,2-l; 17,-41: 45, 23; 51,66 to /an The other side, the roughness of the layer will decrease with the increase of the wthdrmval speed shown by the decreased Ra value _#om 1.28-1; 1, 156; I _ 18; to 0,808. Microhardness of the layer is also decreased with the increse of withdrawal speed both before or ajier densi/ication (2000 Celcius, 2 hours). Before ciensyication, microharciness decrease from 309, 186 118, to 183 VHDL Aj?er denqficarion, mikrahardness will decrease fiom 348. 276, 159. Io 115 I/HM This research also resulx, _#om the XRD tesuhe T EOS layer formed has an amorphous structure. |
S41299-Ricky W.H.P.pdf :: Unduh