Pengaruh waktu pemanasan terhadap reaksi interfasa pada material termoelektrik CoSb3 dengan lapisan pelindung nikel pada temperatur 500oC = Effect of heating time to interface reaction between CoSb3 thermoelectric alloy with nickel barrier layer at 500oC
Nico Riyanto;
Anne Zulfia, supervisor
(Fakultas Teknik Universitas Indonesia, 2013)
|
|
Skripsi ini membahas tentang pengaruh temperatur terhadap material termoelektrik CoSb3 dengan lapisan nikel. Temperatur reaksi yang diaplikasikan berada pada 500oC sebagai apliaksi temperatur maksimal pada mesin kendaraan bermotor, sedangkan parameter yang digunakan adalah waktu reaksi yang berbeda.Hasil reaksi antara lapisan nikel dengan material termoelektrik ini diamati mrofologi dan komposisi reaksinya dengan SEM dan EDS. Hasil pengamatan dengan SEM dan EDS menunjukan adanya perubahan komposisi pada tiap perubahan waktu, begitu pula terhadap kekerasannya. Kemudian kekerasannya dilihat dengan menggunakan metode vicker dengan beban 25 gram yang diindentasikan pada permukaan hasil reaksi. The focus of this study is to see about the effect of heating time at temperature 500oC for reaction between CoSb3 thermoelectric alloy with nickel barrier layer. The reaction temperature was used as the maximum application temperature in car engine. And the parameter that was used is different time for reaction.The result of reaction between nickel and CoSb3 was examined by SEM to examined the morphology and EDS to examined the compound. Then the hardness of the reaction was examined with Vicker hardness with 25 gram force. |
 S44405 Pengaruh waktu.pdf :: Unduh
|
| No. Panggil : | S44405 |
| Entri utama-Nama orang : | |
| Entri tambahan-Nama orang : | |
| Entri tambahan-Nama badan : | |
| Subjek : | |
| Penerbitan : | Depok: Fakultas Teknik Universitas Indonesia, 2013 |
| Program Studi : |
| Bahasa : | ind |
| Sumber Pengatalogan : | |
| Tipe Konten : | |
| Tipe Media : | |
| Tipe Carrier : | |
| Deskripsi Fisik : | xv, 55 hlm. : ill. ; 28 cm. + lamp. |
| Naskah Ringkas : | |
| Lembaga Pemilik : | Universitas Indonesia |
| Lokasi : | Perpustakaan UI, Lantai 3 |
| No. Panggil | No. Barkod | Ketersediaan |
|---|---|---|
| S44405 | 14-19-517025188 | TERSEDIA |
| Ulasan: |
| Tidak ada ulasan pada koleksi ini: 20332005 |
