:: UI - Tesis Membership :: Kembali

UI - Tesis Membership :: Kembali

Densitas keadaan elektron silikon karbon amorf terhidrogenasi (a-Si1-xCx:Hg) dengan metode random bethe lattice: Pengaruh kehadiran hidrogen dan karbon dalam kofigurasi tetrahedral (Sp3) dan trigonal (Sp2)

Risman Adnan; Rosari Saleh, supervisor; Dedi Suyanto, examiner; Silva, B.E.F. da, examiner; Muhammad Hikam, examiner; Budhy Kurniawan, examiner (Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam Universitas Indonesia, 2000)

 Abstrak

Densitas keadaan elektron a-Si1-xCx, and a-Si1-xHy telah dihitung untuk seluruh konsentrasi karbon dan beberapa konsentrasi hidrogen (0≤y≤0.5). Struktur atom dimodelkan dengan struktur acak kontinu yang menghubungkan atom Si, C dan H. Keadaan elektron diperoleh dengan menyelesaikan Hamiltonian tight binding kisi Bethe dengan pendekatan medan efektif. Metode Gomez-Santos dan Verges digunakan untuk memperoleh perata-rataan DOS yang memperhitungkan ketidakteraturan diagonal dan off diagonal serta ketidakteraturan parameter SRO (short range order). Model struktur yang digunakan berdasarkan konfigurasi tetrahedral dari atom Si dan C serta konfigurasi trigonal dari atom C. Kehadiran hidrogen menyebabkan pergeseran ujung atas pita valensi ke energi yang lebih rendah sehingga mengakibatkan pelebaran gap pada a-Si1-xHy, a-C1-yHy(C-sp3) dan a-C1-yHy (C-sp2). Pergeseran ujung atas pita valensi ke energi yang lebih rendah juga terjadi dengan kenaikan konsentrasi karbon pada a-Si1-x, Cx(C-sp3). Pergeseran ujung atas pita valensi yang berbeda terjadi pada a-Si1-x Cx (C-sp2) yang bergeser ke energi yang lebih tinggi. Selain itu ujung bawah pita konduksi juga bergeser ke energi yang lebih tinggi. Kenaikan lebar gap yang lebih tinggi terjadi untuk konfigurasi karbon berikatan tetrahedral sp3 dibandingkan konfigurasi karbon berikatan trigonal sp2. Kehadiran hydrogen dan karbon secara bersamaan pada aSi1-xCx:Hy(C-sp3) dan a-Si C1-xCx (C-sp2) meningkatkan lebar gap. Peningkatan fraksi karbon dalam bentuk grafit meningkatkan lebar gap a-Si1-x Cx (C-sp2 dan C-sp3) sampai konsentrasi karbon x=0.6.

 File Digital: 1

Shelf
 T 542-Densitas keadaan.pdf :: Unduh

LOGIN required

 Metadata

No. Panggil : T542
Entri utama-Nama orang :
Entri tambahan-Nama orang :
Subjek :
Penerbitan : Depok: Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam Universitas Indonesia, 2000
Program Studi :
Bahasa : ind
Sumber Pengatalogan : LibUI ind rda
Tipe Konten : text
Tipe Media : computer
Tipe Carrier : online resource
Deskripsi Fisik : xvii, 78 pages ; 28 cm
Naskah Ringkas :
Lembaga Pemilik : Universitas Indonesia
Lokasi : Perpustakaan UI, Lantai 3
  • Ketersediaan
  • Ulasan
No. Panggil No. Barkod Ketersediaan
T542 15-19-090125716 TERSEDIA
Ulasan:
Tidak ada ulasan pada koleksi ini: 70625