Ditemukan 32 dokumen yang sesuai dengan query
Akhadiana, author
Lapisan indium timah oksida (ITO, 90wt% In203 - lOwt% SnO2) dengan ketebalan 349 - 1081 nm dan variasi tekanan parsial oksigen 2,2% - 10,5% selama deposisi telah berhasil dibuat dengan do magnetron sputering. Dilakukan studi mengenai pengaruh tekanan parsial oksigen dan anil udara pasca deposisi pada sifat optis lapisan tipis...
Depok: Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam Universitas Indonesia, 1997
T-Pdf
UI - Tesis (Membership) Universitas Indonesia Library
Eric Jobiliong, author
Indium tin oxide (ITO) films have been prepared by do magnetron sputtering with different partial oxygen pressure from 4 mPa to 32 mPa and different of sputter power. The thickness of ITO films were found to be 529 nm - 796 nm. The effects of oxygen partial pressure and sputtering...
Depok: Universitas Indonesia, 1999
T17289
UI - Tesis (Membership) Universitas Indonesia Library
