::  Hasil Pencarian  ::  Simpan CSV :: Kembali

Rachmat Widodo Adi, author

ABSTRAK
Pada eksperimen ini telah dibuat film ZrN dengan metode sputtering magnetron reaktif pada temperatur substrat 325°C, 230°C dan 125°C. Hasil pengukuran XRD menunjukkan bahwa diamati terjadi kompetisi pengaruh antara parameter temperatur substrat dan laju alir nitrogen pada struktur akhir film ZrN hasil deposisi. Dari analisis pelebaran garis dan perubahan jarak...

Depok: Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam Universitas Indonesia, 1995

LP-pdf

UI - Laporan Penelitian  Universitas Indonesia Library

• Cari yang mirip
• Tambahkan ke Favorit
• Abstrak