Resistansi lapisan tipis indium tin oksida yang dibuat dengan proses sputtering dengan variasi tekanan parsial oksigen

Distribusi ketebalan lapisan tipis indium tin oxide (ITO) dengan proses DC magnetron sputtering

Sifat listrik lapisan tipis indium tin oxide (ITO) yang dibuat dengan DC magnetron sputtering dan evaporasi berkas elektron

Distribusi keterbalan dan distribusi resistivitas listrik lapisan tipis Indium tin oxide (ITO) yang dibuat dengan metode sputtering

Effects of deposition parameters and oxygen addition on properties of sputtered indium tin oxide films = Efek parameter deposisi dan penambahan oksigen terhadap sifat-sifat lapisan tipis indium timah oksida hasil sputtering