Hasil Pencarian  ::  Simpan CSV :: Kembali

"Latar belakang: Pajanan MEK dan sinar Ultraviolet dibagian Cementing (pengeleman) dapat mengganggu kesebatan, khususnya kesehatan mata pekelja. Jumlab kasus Konjungtivitis di klinik perusabaan yang selalu masuk !islam sepulub penyakit tetbanyak, sangat meumlk unlak diteliti lebih jauh, apakab kasus konjungtivitis yang terjadi di Perusahaan P sebagai akibat pekerjaan atau bukan sebagai akibat pekerjaan.Merode: Menggunaken metude studi pre dan post, dimana dilakukan intervensi dengan menggunakan chemical goggles. Semua pekerja dibagian Cementing (pengeleman) sejumlan 44 orang yang terpajan uap MEK drul sinar Ultraviolet diikutsertakan dalam penelitian ini. Pengumpulan data dilakukan dengan wawancara, pengisian kuesioner dan informed oleh pekelja dan pemeriksan fisik dan status kesehatan mata oleh dokter pemeriksa (bukan peneliti). Pada analisis data dinilai apakeh goggles dapat menurunkan jumlab kasus Konjungtivitis AkibatKerja.Hasil: Jumlab kasus Konjungtivitis Akibat Kerja sebelum penmkaian goggles 59.1% drul pada saat pentakaian goggles 56.8%. Penggonaan goggles pada penelitian ini menjadi kurang efektif disebabkan ketidakdisiplinan responden (68.2%) melepaskan goggles pada waktu bekerja. Ketidakdisiplinan disebabkan karena tingkat pendidikan responden terbesar tarnat SD-SMP sehingga kesadaran akan kesebatan kurang dan juga ketidaknyamanan (70.4%) sehingga responden sering melepaskan gogglesnya. Ketidaknyamanan didnkung dengan suhu lingkangan yang tinggi. Secara statistik tidak ditemukan hubungan yang barmakua (p> 0.05) antam faktor resiko untuk variabel umur, masa kerja, tinggl mata saat duduk, pendidikan dan kesehatan mata ( tes Schirmer) dengan terjadinya Konjungtivitis akibat kerja. Dari analisis uji Me Nemar diperoleb basil dimana tidak ada perbedaan jumlah kasus konjungtivitis sebalum dan setelab penggonaan chemical goggles pada peke!ja yang terpajan uap Metil Etil Keton drul sinar Ultraviolet.Kesimpulan: tidak terdapat perbedaan jumlab kesus konjungtivitis akibat kelja sebelum dan setelab penggunaan chemical goggles pada peke!ja yang terpajan palarut organik Metil Etil Keton dan sinar Ultraviolet dikarenakan ketidakdisiplinan di lingkungan kerja yang panas.

---

Background: exposure to MEK and UV mys at cementing division may cause various health problem, especially to the eyes of workers. It is very interesting subject to be studied that the incidence of conjunctivitis in company clinic always be among the most top ten diseases. Have the conjunctivitis occurred because of their job or not?Methods: study was conducted by pre and post design in which post study, respondents were interfered by using chemical goggle. Forty four workers who exposed to MEK and UV miss at cementing division plant 5 were included in tills study. Data was collected by interviewing, questionnaire, physical examination and eyes examination. Analyses of the data had done to assess whether the goggle could reduce the incident of occupation.al conjunctivitis.Results: Not having worn the goggle, the incidence of conjunctivitis among respondents was 59.1 %. Having worn the goggle the incidence of conjunctivitis among respondents was 56.&%. One of the reason was that respondents had not been discipline to wear the goggle. It was happened because most of respondents had have low educational level (elementary and junior high school) that influence to their health awareness. Respondents were also often to release the goggles {70.4%) because the use of goggles had been not convenient. That inconvenient could be result in the temperature so it is necessary to improve working environment. There was no significant relationship (p> 0.05) between risk factors for the variable of age, length of work, height level of the eyes when sitting, education level and health condition of the eyes (shimmer test) with occupational conjunctivitis. Using Me Nemar 1est obtained that there was no significant differences between pre and post the use of chemical goggle on workers who exposed to MEK and UV rays.Conclusions: This study couldn't prove the hypothesis that there had been differences on incideoce of occupational conjunctivitis between pre and post the use of chemical goggle on workers who had exposed to MEK and UV rays."

"Mahalnya harga sebuah UV-photolithography aligner di pasaran menjadi sebuah alasan untuk merancang dan mengkarakterisasi UV-photolithography aligner berbiaya murah. Proses photolithography yang sederhana tapi perlu ketelatenan, memungkinkan untuk memodifikasi photolithography aligner dengan cara menggunakan komponen-komponen komersial dan tentu saja harganya murah. Tujuan penelitian ini adalah menganalisa kemampuan produk komersial dalam proses UV-photolithography, mencari waktu exposure dan resolusi optimum. Metoda proses photolithography yang digunakan adalah metoda kontak. Lampu UV komersial dan photomask yang murah merupakan komponen utama dalam penelitian ini. Dengan intensitas cahaya 0,2 mW/cm2 memerlukan waktu exposure minimal 50 detik. Waktu exposure optimum tergantung dari pada bahan photomask. Resolusi terkecil yang dicapai tergantung resolusi photomask. Hasil resolusi terkecil adalah 165 µm dengan persentase penyimpangan 10 % terhadap desain awal.

---

The high price of a UV-photolithography aligner on the market is the reason for designing and characterize low cost UV-photolithography aligner. Photolithography process is simple but it needs patience, enable to modify photolithography aligner by using commercial components and certainly low price. The objective of this study is analyzing the ability of a commercial product in UV-photolithography process, search optimum exposure time and resolution. The method of photolithography process to be used is the method of contact alignment. Commercial UV lamps and cheap photomask are main component in this study. With a light intensity of 0.2 mW/cm2 require the exposure time at least 50 seconds. The smallest achievable resolution depends on the resolution photomask. The Results of smallest resolution is 165 µm with a percentage error 10% of the original design."

"Penelitian ini mengkaji kinerja UV detektor berbasis ZnO nanorods. ZnO dipilih sebagai material utama karena sifat-sifatnya yang unggul seperti band gap energi yang lebar, mobilitas elektron yang tinggi, dan sensitivitas terhadap sinar UV. Pengembangan UV detektor berbasis ZnO NRs dilakukan untuk mendapatkan material yang terbaik. Pengaruh radiasi UV/Ozone dilakukan untuk memodifikasi sifat-sifat material. Perlakuan UV/Ozone menghasilkan perubahan yang signifikan pada ZnO NRs, seperti modifikasi morfologi, peningkatan kristalinitas, dan efisiensi emisi PL. UV detektor berbasis ZnO NRs dengan UV/Ozone menunjukkan responsivitas yang signifikan dari 0.13 A/W menjadi 0.64 A/W. Peningkatan responsivitas ini juga menyebabkan peningkatan detektivitas dari 0.99×10^10 Jones menjadi 4.46×10^10 Jones. Selain itu sensitivitas dan efisiensi konversi foton ke listrik juga meningkat, dengan hasil terbaik menunjukkan peningkatan sensitivitas dari 25% menjadi 100% dan EQE 43.26% menjadi 216.28%. Hasil ini memberikan wawasan mendalam tentang potensi penerapan radiasi UV/Ozone dalam meningkatkan kinerja detektor UV berbasis ZnO NRs. Implikasinya adalah pengembangan UV detektor yang lebih responsif, sensitif, dan stabil untuk berbagai aplikasi, termasuk pengukuran radiasi UV, sensor lingkungan, dan teknologi fotovoltaik.

---

This research examines the performance of UV detectors based on ZnO nanorods. ZnO is chosen as the primary material due to its superior properties such as wide band gap energy, high electron mobility, and sensitivity to UV light. The development of UV detectors based on ZnO NRs is carried out to obtain the best material. The influence of UV/Ozone radiation is applied to modify the material properties. UV/Ozone treatment results in significant changes in ZnO NRs, such as morphological modifications, increased crystallinity, and enhanced PL emission efficiency. UV detectors based on ZnO NRs treated with UV/Ozone showed a notable increase in responsivity from 0.13 A/W to 0.64 A/W. This increased responsivity also led to an improvement in detectivity from 0.99×10^10 Jones to 4.46×10^10 Jones. Additionally, the sensitivity and the efficiency of converting photons to electricity also improved, with the best results showing an increase in sensitivity from 25% to 100% and EQE from 43.26% to 216.28%. These results provide valuable insights into the potential application of UV/Ozone radiation in enhancing the performance of UV detectors based on ZnO NRs. The implications include the development of more responsive, sensitive, and stable UV detectors for various applications, such as UV radiation measurement, environmental sensors, and photovoltaic technology."

"Bioaerosol merupakan partikulat biologis yang mengudara dan berpotensi menularkan penyakit jika mengandung agen patogenik. Karena ukurannya yang relatif kecil, bioaerosol dapat dengan mudah tersuspensi di udara dan mudah terdispersi hingga terhirup oleh makhluk hidup. Radiasi ultraviolet (UV), terutama spektrum UVC dengan kisaran gelombang 200-280 nm bersifat letal karena menghambat pertumbuhan mikroorganisme. Pemanfaatan radiasi UVC menjadi metode alternatif untuk membantu membatasi transmisi bioaerosol dari individu satu ke individu lain dalam ruang tertutup dengan mengurangi konsentrasi mikroorganisme patogenik di udara. Penelitian bertujuan untuk mengetahui dan mengevaluasi tingkat efektivitas germisida cahaya UVC dari perangkat UVC komersial. Penelitian dilakukan dengan 3 tahapan utama: menguji efek germisida secara kualitatif dengan metode pemaparan langsung; menguji efek germisida secara kuantitatif dengan metode total plate count (TPC); dan evaluasi efek germisida dengan aplikasi pada ruang menggunakan metode settle plate. Hasil data kuantitatif diperoleh melalui pengamatan visual terhadap pertambahan jumlah koloni mikroorganisme sampling. Hasil penelitian menunjukkan bahwa radiasi UVC memberikan pengaruh nyata dalam mereduksi jumlah koloni uji yang tumbuh dan total populasi mikroorganisme udara ruang bila dibandingkan dengan koloni kontrol. Penelitian menunjukkan bahwa iradiasi UVC secara langsung dengan jarak 2 meter efektif menghambat pertumbuhan mikroorganisme hingga 99,9%.

---

Bioaerosols are biological particulates that settle in the air and have the potential to transmit disease if they contain pathogenic agents. Due to their relatively small size, bioaerosols can easily be suspended in the air and easily dispersed until they are inhaled by living things. Ultraviolet radiation (UV), especially the UVC spectrum with a wave range of 200-280 nm is lethal because it inhibits the growth of microorganisms. Utilization of UVC radiation is considered as an alternative method to help limiting the transmission of bioaerosols from one individual to another in closed spaces by reducing the concentration of pathogenic microbes in the air. The aim of this study was to determine and evaluate the effectiveness of UVC light germicides from commercial UVC devices. The research was carried out in 3 main stages: qualitatively testing the effects of germicides using the direct exposure method; to test the germicidal effect quantitatively using the total plate count (TPC) method; and evaluation of the germicidal effect by application to room space using the settle plate method. The results of the data were obtained through visual observation of the increase in number of sampling microorganism colonies. The results showed that UVC radiation had a significant effect in reducing the number of growing test colonies and the total population of room air microorganisms when compared to control colonies. Research shows that direct UVC irradiation with a distance of 2 meters effectively inhibits the growth of microorganisms up to 99.9%."

"Fotodetektor UV berbasis nanostruktur ZnO dengan konfigurasi logam-semikonduktor-logam (MSM) menarik banyak minat karena pembuatannya yang sederhana. Namun, mereka menghadapi masalah seperti laju rekombinasi tinggi dan mobilitas pembawa muatan rendah. Penelitian ini secara menyeluruh mengkaji efek dari paparan UV-O3 selama 15 menit pada struktur ZnO/MoS2. Penambahan nanosheets MoS2 dan UV-O3 treatment secara signifikan meningkatkan seluruh parameter kinerja fotodektektor. ZnO/MoS2UVo menunjukkan hasil yang paling baik, dengan peningkatan enam kali lipat dalam Sensitivitas di bawah cahaya UV dibandingkan dengan ZnO NR murni. Responsivitas, Detektivitas, dan Efisiensi Kuantum juga menunjukkan peningkatan hingga 102%. Peningkatan ini secara umum disebabkan oleh penurunan arus gelap (dark current) setelah penambahan nanosheets MoS2 pada ZnO NR. Penurunan ini mungkin disebabkan oleh pengurangan jumlah kekosongan oksigen ( ) karena terisi oleh atom tepi belerang S dari MoS2. Selain itu, penurunan arus gelap secara lebih lanjut setelah paparan UV-O3 disebabkan oleh semakin berkurangya dalam ZnO. UV-O3 ­treatment memperkenalkan atom oksigen baru, menggantikan atom tepi belerang pada kekosongan tersebut, yang kemudian membentuk lapisan molybdenum oksida (MoO3) pada permukaan ZnO/MoS2. Meskipun demikian, banyaknya sambungan antara ZnO, MoS2, dan MoO3 memperlambat transfer muatan ke elektroda.

---

UV photodetectors based on ZnO nanostructures, using a metal-semiconductor-metal (MSM) configuration, are popular due to their simple fabrication. However, they face issues like a high recombination rate and low charge carrier mobility. This study thoroughly examines the effects of 15 min UV-O3 exposure on the ZnO/MoS2 structure. The integration of MoS2 nanosheets and UV-O3 treatment significantly boosts all performance parameters. ZnO/MoS2UVo displays the most remarkable results, with a six-fold increase in Sensitivity under UV light compared to pure ZnO NR. It also demonstrates up to a 102% enhancement in Responsivity, Detectivity, and Quantum efiiciency. This enhancement is primarily attributed to the decline in dark current after applying a MoS2 coating on ZnO. This decrease is attributed to the reduction of oxygen vacancies ( ) as sulfur edge atoms from MoS2 fill these vacancies. Furthermore, additional dark current reduction post UV-O3 treatment is due to a substantial reduction in oxygen vacancies within the ZnO. The UV-O3 treatment introduces new oxygen atoms, replacing the sulfur edge atoms at these vacancies, forming a molybdenum oxide (MoO3) layer on the ZnO/MoS2 surface. Despite these improvements, the multiple junctions between ZnO, MoS2, and MoO3."

"Ketahanan warna merupakan parameter penting pada aplikasi cat. Penelitian ini bertujuan untuk mempelajari proses kinetika degradasi warna akibat paparan sinar UV serta agar mengetahui lamanya ketahanan warna cat dan besar nilai perubahan warna yang dihasilkan dari Kopolimer Stirena MMA. Kopolimer Stirena MMA sebagai aplikasi cat diuji dengan variasi temperatur, waktu, dan pigmen. Data diperoleh menunjukkan bahwa Kopolimer Stirena MMA sebagai aplikasi cat dengan penambahan pigmen 3% dan 10% lebih tahan dalam menahan sinar UV dengan perubahan warna yang tidak terlalu besar ΔE ≤ 3 sedangkan Kopolimer Stirena MMA tanpa pigmen dan pigmen 5% mengalami perubahan warna yang signifikan setelah penyinaran UV selama 50 jam dan pada temperatur 50℃. Berdasarkan hasil pengukuran, kinetika degradasi warna mengikuti persamaan Avrami yang menunjukkan bahwa semakin tinggi kenaikan temperatur maka semakin cepat laju degradasi. Energi aktivasi rendah mempengaruhi laju degradasi pigmen 3% dan pigmen 5% menjadi lebih cepat dibandingkan dengan penelitian tanpa pigmen dan pigmen 10%.

---

Color durability is an important parameter in paint application. This research aims to study the kinetics of color degradation due to exposure to UV light and to determine the length of color retention and the magnitude of the color change resulting from Styrene MMA Copolymer. Styrene MMA copolymer as a paint application was tested with variations in temperature, time and pigment. The data obtained shows that MMA Styrene Copolymer as a paint application with the addition of 3% and 10% pigment is more resistant to UV rays with color changes that are not too large ΔE ≤ 3 while MMA Styrene Copolymer without pigment and 5% pigment experience significant color changes after that UV copying for 50 hours and at a temperature of 50℃. Based on the measurement results, the color degradation kinetics follow the Avrami equation which shows that the higher the temperature rise, the faster the degradation rate. Low activation energy influences the degradation rate of 3% pigment and 5% pigment to be faster compared to studies without pigment and 10% pigment."

"Bahaya radiasi Ultraviolet-B di tempat kerja yang dihasilkan oleh proses pengelasan merupakan salah satu faktor yang dapat menyebabkan terjadinya gangguan kesehatan dan penyakit akibat kerja pada pekerja PT. Jaya Asiatic Shipayrd Indonesia ? Batam, yang mana dalam proses produksinya melakukan proses pengelasan dalam penyambungan logam mempunyai potensi untuk terjadinya kelelahan mata pekerja las. Penelitian ini bertujuan untuk melihat apakah terjadi peningkatan keluhan kelelahan mata sebagai akibat pajanan radiasi Ultraviolet-B pada pekerja las di workshop Hull perusahaan. Faktor yang berhubungan dengan keluhan kelelahan mata yang diteliti adalah tingkat radiasi Ultraviolet-B, serta beberapa faktor yang berkaitan dengan individu yaitu umur, lama paparan dan pemakaian Alat Pelindung Diri. Penelitian ini dilakukan dengan disain deskriptif analitik dengan pendekatan cross sectional untuk menemukan fakta dengan interpretasi yang tepat dan akurat melukiskan gejala-gejala kelelahan mata pada kelompok atau individu pekerja las. Pengumpulan data dilakukan dengan mengukur tingkat radiasi Ultraviolet-B memapar pekerja las, serta mendapatkan data umur, lama paparan, dan pemakaian Alat Pelindung Diri melalui kuesioner. Dari hasil penelitian diketahui bahwa 90% pekerja las di workshop Hull mengalami keluhan kelelahan mata. Setelah dilakukan analisis data, ternyata keseluruhan pekerja las terpapar dengan tingkat radiasi yang dihasilkan oleh proses pengelasan yang melebihi nilai ambang batas. Analisis hubungan antara faktor-faktor yang mempengaruhi keluhan kelelahan mata pekerja ternyata tidak terlihat adanya hubungan. Dari penelitian ini dapat disimpulkan bahwa dari hasil pengukuran radiasi Ultraviolet-B di workshop Hull melebihi nilai ambang batas yang diperbolehkan berdasarkan PERMENAKERTRANS No. PER.13/MEN/X/2012. Bagi peneliti lain yang ingin melihat faktor-faktor yang mempengaruhi keluhan kelelahan mata pekerja las, perlu mempertimbangkan adanya populasi kontrol.

---

Ultraviolet-B radiation hazards in the workplace is a factor that caused of health effect and occupational disease on the workers of PT. Jaya Asiatic Shipayrd Indonesia - Batam, where in the process of their production conducting welding to connect metal, has the potential for eye fatigue of the welders.

This study aims to determine whether there is an increase in eye fatigue complaints as a result of UV-B radiation exposure to welder in Hull Workshop. Factor associated with complaints of eye fatigue studied is Ultraviolet-B radiation levels, as well as a number of factors relating to the individual, namely age, duration of exposure, and usage of Personal Protective Equipment.

The research was done by analytical descriptive design with cross sectional approach to find the facts to the proper interpretation and accurately describe the symptoms of eye fatigue on the individual or group of welder. Data collection was performed by measuring the levels of UV-B radiation exposed welders, as well as getting the data on age, duration of exposure and the use of Personal Protective Equipment through questionnaires.

The survey results revealed that 90% of workers in the Hull welding workshop complaint of eye fatigue. After analyzing the data, it turns out that the whole welders were exposed to radiation levels generated by the welding process that exceeds a threshold limit value. Analysis of the relationship between the factors that affect workers' complaints eyes fatigue was not visible.

From this study it can be concluded that the measurement of UV-B radiation in Hull workshop exceeds the threshold limit value allowed by PERMENAKERTRANS No. PER.13/MEN/X/2012. For other researchers who want to look at the factors that affect welders complaints eye fatigue, needs to consider the control population."

"Kemampuan menghadapi cekaman abiotik, termasuk radiasi UV-B menentukan kemampuan kolonisasi tumbuhan invasif Synedrella nodiflora (L.) Gaertn. yang tumbuh di tempat ternaung dan terbuka. Synedrella nodiflora diduga toleran terhadap intensitas UV-B yang relatif tinggi. Peningkatan ekspresi gen-gen penyandi Heat Shock Protein 70 (Hsp70) merupakan salah satu respons pertahanan tumbuhan terhadap cekaman UV-B. Oleh sebab itu, perlu dilakukan penelitian untuk membandingkan tingkat ekspresi gen penyandi Hsp70 di sitoplasma, mitokondria, dan plastida (Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2) pada daun Synedrella nodiflora terhadap kondisi lingkungan dengan intensitas radiasi UV-B yang berbeda. Penelitian dan pengukuran faktor lingkungan dilakukan di area kampus Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam, Universitas Indonesia, Depok. Real-time PCR digunakan untuk kuantifikasi cDNA Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2. Kuantitas cDNA tiap gen dinormalisasi terhadap gen TUB sebagai reference gene. Tingkat ekspresi gen relatif dianalisis dengan metode Pfaffl. Lokasi kontrol, ternaung, dan terbuka secara berturut-turut memiliki rerata intensitas radiasi UV-B sebesar 18,4 ± 0,1, 44,1 ± 0,6, dan 260,1 ± 78,3 mW/m2. Daun S. nodiflora dari lokasi ternaung memiliki tingkat ekspresi gen Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2 yang meningkat 85,54; 2,41; dan 30,58 kali relatif terhadap TUB. Daun dari lokasi terbuka memiliki tingkat ekspresi gen Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2 yang meningkat 2,01, 9,46, dan 2,50 kali relatif terhadap TUB. Tingkat ekspresi Hsp70 dan cpHsc70-2 relatif lebih tinggi pada daun yang dikoleksi dari lokasi ternaung, sedangkan mtHsc70-1 relatif lebih rendah. Sebaliknya, tingkat ekspresi Hsp70 dan cpHsc70-2 relatif lebih rendah padadaun yang dikoleksi dari lokasi terbuka, sedangkan mtHsc70-1 relatif lebih tinggi. Synedrella nodiflora di lokasi terbuka diduga telah teraklimatisasi terhadap kondisi lingkungan dengan suhu, intensitas cahaya, dan intensitas UV-B yang relatif lebih tinggi. Hal tersebut menyebabkan S. nodiflora di lokasi terbuka mengalami peningkatan suhu, intensitas cahaya, dan intensitas UV-B minimum yang dibutuhkan untuk menginduksi peningkatan ekspresi gen Hsp70 dan cpHsc70-2. Gen Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2 memiliki pola ekspresi yang berbeda pada kondisi lingkungan tumbuh Synedrella nodiflora, baik kondisi ternaung maupun terbuka (intensitas radiasi UV-B yang berbeda). Tingkat ekspresi Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2 diduga juga dipengaruhi oleh faktor lain, di antaranya suhu dan intensitas cahaya.

---

The ability to deal with abiotic stresses, including UV-B radiation determines the colonizing ability of an invasive plant species, Synedrella nodiflora (L.) Gaertn. that grows in shaded and open places. Synedrella nodiflora may possibly tolerant to relatively high UV-B intensity. Increased expression levels of genes encoding Heat Shock Protein 70 (Hsp70) are one of the plant defense responses against UV-B stress. Therefore, the study aimed was to compare expression levels of genes encoding cytosolic, mitochondrial, and plastid Hsp70 (Hsp70, mtHsc70-1, and cpHsc70-2) in Synedrella nodiflora leaves against environmental conditions with different UV-B radiation intensities. Research and measurement of environmental factors were carried out in Faculty of Mathematics and Natural Sciences campus area, Universitas Indonesia, Depok. Real-time PCR was used to quantify Hsp70, mtHsc70-1, and cpHsc70-2 cDNA. cDNA quantity of each gene was normalized to TUB gene as reference gene. Relative gene expression levels were analyzed using Pfaffl method. Average UV-B intensity radiation in control, shaded, and open locations were 18,4 ± 0,1, 44,1 ± 0,6, and 260,1 ± 78,3 mW/m2, respectively. Synedrella nodiflora leaves from shaded location had Hsp70, mtHsc70-1, and cpHsc70-2 expression levels that increased 85,54; 2,41; and 30,58-fold relative to TUB. Leaves from open location had Hsp70, mtHsc70-1, and cpHsc70-2 expression levels that increased 2,01, 9,46, dan 2,50-fold relative to TUB. Expression levels of Hsp70 dan cpHsc70-2 were relatively higher in leaves that collected from shaded location, while mtHsc70-1 was relatively lower. Inversely, expression levels of Hsp70dan cpHsc70-2 were relatively lower in leaves that collected from open location, while mtHsc70-1 was relatively higher. Synedrella nodiflora in open location is possibly have acclimatized to environmental conditions with relatively higher temperature, light intensity, dan UV-B intensity. This acclimatization caused S. nodiflora in open location experienced an increase in minimum temperature, light intensity, and UV-B intensity required to induce an increase in Hsp70 dan cpHsc70-2 gene expression. The Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2 genes have different expression patterns under growth conditions of S. nodiflora, both shaded and open conditions (different UV-B radiation intensities). The expression levels of Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2 may also influence by another factors, including temperature and light intensity."

"Radiasi sinar ultraviolet dapat memberi efek negatif pada kulit manusia. Salah satu cara untuk melindungi kulit dari bahaya sinar UV adalah dengan menggunakan tabir surya atau produk kosmetik lain yang memiliki kandungan bahan fotoprotektif. Penggunaan produk kosmetik dengan kandungan bahan alam sebagai fotoprotektor juga semakin diminati. Dalam review artikel ini memuat tentang berbagai bahan alam yang memiliki efek fotoprotektif dan mungkin dapat digunakan dalam formulasi sediaan kosmetik. Bahan alam tersebut diantaranya adalah alga coklat, teh hijau, delima, lidah buaya, apel, anggur, kunyit, wortel, walnut, kopi, minyak biji bunga matahari, dan tomat. Bahan alam tersebut memiliki kandungan senyawa yang memiliki potensi sebagai agen fotoprotektif dan memungkinkan untuk digunakan dalam pengembangan formulasi suatu produk kosmetik.

---

Ultraviolet radiation can have a negative effect on human skin. One of the way to protect the skin from the dangers of UV rays is to use sunscreen or other cosmetic products that contain photoprotective ingredients. The use of cosmetic products with natural ingredients as photoprotectors is also increasingly in demand. In this review article contains various natural ingredients that have photoprotective effects and may be used in preparation of cosmetic formulations. These natural ingredients include brown algae, green tea, pomegranate, aloe vera, apples, grapes, turmeric, carrots, walnuts, coffee, sunflower seed oil, and tomatoes. These natural ingredients contain compounds that have potential as photoprotective agents and allow them to be used in the development of a cosmetic product formulation."

"Saat ini permasalahan lingkungan yang diakibatkan oleh penggunaan sumber energi fosil terus meningkat. Penggunaan energi fosil secara berlebihan menjadi penyebab terjadinya pemanasan global global warming seiring dengan meningkatnya gas karbon dioksida CO2 yang dihasilkan. Oleh karena itu, pada penelitian ini akan dilakukan konversi CO2 dari bikarbonat HCO3- menjadi asam format HCOOH. Dilaporkan pengaruh pengukuran celah pita terhadap produksi asam format melalui reaksi fotoreduksi bikarbonat, dengan menggunakan katalis dari material nanopartikel semikonduktor dalam berbagai variasi ukuran yaitu CdSe quantum dot CdSe kecil, CdSe sedang dan CdSe besar yang terintegrasi dengan TiO2 nanospindel. Pengukuran celah pita CdSe-TiO2 nanohibrid mengindikasikan adanya perubahan nilai celah pita pada TiO2 nanospindel saat diintegrasikan dengan CdSe quantum dot dengan berbagai variasi ukuran. Selain itu, dalam penelitian ini juga dilakukan penyinaran terhadap proses reaksi konversi bikarbonat menjadi asam format dengan menggunakan reaktor lampu visible. Asam format yang didapatkan dari hasil konversi dengan TiO2 nanospindel, nanopartikel Quantum dot terintegrasi CdSe kecil-TiO2 nanohibrid, CdSe sedang-TiO2 nanohibrid, CdSe besar-TiO2 nanohibrid yaitu 11,794; 12,440; 12,790 dan 14,290 mmol/gram katalis. Pada saat diintegrasikan dengan CdSe quantum dot produksi asam format bertambah secara signifikan. CdSebesar-TiO2 nanohibrid memiliki aktivitas fotokatalitik yang paling tinggi dibandingkan dengan CdSe kecil-TiO2 nanohibrid, CdSe sedang-TiO2 nanohibrid serta TiO2 nanospindel saja. Peningkatan hasil reaksi konversi produksi asam format diakibatkan oleh aktivitas hole scavenging dari gliserol pada permukaan CdSe-TiO2 nanohibrid.

---

Nowadays environmental problems caused by consuming fossil energy sources to be continued increasing. Excessive use of fossil energy is the cause of global warming along with the increase in carbon dioxide CO2 gas produced, therefore in this study we will convert CO2 from bicarbonate HCO3- to formic acid HCOOH. It was reported the effect of bandgap measurements on production of formic acid through bicarbonate photoreduction reactions, using catalysts from semiconductor nanoparticle materials in various sizes, namely CdSe quantum dots small CdSe, medium CdSe and large CdSe integrated with nanospindle TiO2. Nanohibrid TiO2 indicates a change in the bandgap value of the nanospindel TiO2, when integrated between quantum dots with various size variations. In addition, this research also carried out irradiation of the conversion reaction process from bicarbonate into formic acid using visible light reactor. Formic acid obtained from the conversion results with TiO2 nanospindel, Quantum nanoparticles dots integrated CdSe small-nanohybrid TiO2, CdSe medium-nanohybrid TiO2, CdSe large-nanohybrid TiO2 are 11,794; 12,440; 12,790 and 14,290 mmol/gram catalyst. When nanoparticles integrated with CdSe quantum dots the production format increases significantly. CdSe large-nanohybrid TiO2 has the highest photocatalytic activity compared to Cdse medium-nanohybrid TiO2, CdSe small-nanohybrid TiO2 and TiO2 nanospindel only. The increase in the yield of the formic acid production conversion reaction was due to hole scavenging activity of glycerol on the surface of CdSe-nanohybrid TiO2."