Hasil Pencarian  ::  Simpan CSV :: Kembali

"Sunshine is good for you! While too much sun causes wrinkles and raises other health concerns, a lack of sun exposure, our primary source of vitamin D, can cause serious health problems. Dr Holick, the discoverer of the active form of vitamin D, has pulled together an impressive body of evidence in support that no one should be - as he puts it - a sunphobe, nor, for that matter, a sun worshipper. His conclusion says that a relatively brief, but unfettered exposure to sunshine and its equivalent can help to ward off a host of debilitating and sometimes deadly diseases, including osteoporosis, cancers of the colon, prostate and breast, hypertension, diabetes, multiple sclerosis, rheumatoid arthritis, and depression."

"Mahalnya harga sebuah UV-photolithography aligner di pasaran menjadi sebuah alasan untuk merancang dan mengkarakterisasi UV-photolithography aligner berbiaya murah. Proses photolithography yang sederhana tapi perlu ketelatenan, memungkinkan untuk memodifikasi photolithography aligner dengan cara menggunakan komponen-komponen komersial dan tentu saja harganya murah. Tujuan penelitian ini adalah menganalisa kemampuan produk komersial dalam proses UV-photolithography, mencari waktu exposure dan resolusi optimum. Metoda proses photolithography yang digunakan adalah metoda kontak. Lampu UV komersial dan photomask yang murah merupakan komponen utama dalam penelitian ini. Dengan intensitas cahaya 0,2 mW/cm2 memerlukan waktu exposure minimal 50 detik. Waktu exposure optimum tergantung dari pada bahan photomask. Resolusi terkecil yang dicapai tergantung resolusi photomask. Hasil resolusi terkecil adalah 165 µm dengan persentase penyimpangan 10 % terhadap desain awal.

---

The high price of a UV-photolithography aligner on the market is the reason for designing and characterize low cost UV-photolithography aligner. Photolithography process is simple but it needs patience, enable to modify photolithography aligner by using commercial components and certainly low price. The objective of this study is analyzing the ability of a commercial product in UV-photolithography process, search optimum exposure time and resolution. The method of photolithography process to be used is the method of contact alignment. Commercial UV lamps and cheap photomask are main component in this study. With a light intensity of 0.2 mW/cm2 require the exposure time at least 50 seconds. The smallest achievable resolution depends on the resolution photomask. The Results of smallest resolution is 165 µm with a percentage error 10% of the original design."

"Latar belakang: Pajanan MEK dan sinar Ultraviolet dibagian Cementing (pengeleman) dapat mengganggu kesebatan, khususnya kesehatan mata pekelja. Jumlab kasus Konjungtivitis di klinik perusabaan yang selalu masuk !islam sepulub penyakit tetbanyak, sangat meumlk unlak diteliti lebih jauh, apakab kasus konjungtivitis yang terjadi di Perusahaan P sebagai akibat pekerjaan atau bukan sebagai akibat pekerjaan.Merode: Menggunaken metude studi pre dan post, dimana dilakukan intervensi dengan menggunakan chemical goggles. Semua pekerja dibagian Cementing (pengeleman) sejumlan 44 orang yang terpajan uap MEK drul sinar Ultraviolet diikutsertakan dalam penelitian ini. Pengumpulan data dilakukan dengan wawancara, pengisian kuesioner dan informed oleh pekelja dan pemeriksan fisik dan status kesehatan mata oleh dokter pemeriksa (bukan peneliti). Pada analisis data dinilai apakeh goggles dapat menurunkan jumlab kasus Konjungtivitis AkibatKerja.Hasil: Jumlab kasus Konjungtivitis Akibat Kerja sebelum penmkaian goggles 59.1% drul pada saat pentakaian goggles 56.8%. Penggonaan goggles pada penelitian ini menjadi kurang efektif disebabkan ketidakdisiplinan responden (68.2%) melepaskan goggles pada waktu bekerja. Ketidakdisiplinan disebabkan karena tingkat pendidikan responden terbesar tarnat SD-SMP sehingga kesadaran akan kesebatan kurang dan juga ketidaknyamanan (70.4%) sehingga responden sering melepaskan gogglesnya. Ketidaknyamanan didnkung dengan suhu lingkangan yang tinggi. Secara statistik tidak ditemukan hubungan yang barmakua (p> 0.05) antam faktor resiko untuk variabel umur, masa kerja, tinggl mata saat duduk, pendidikan dan kesehatan mata ( tes Schirmer) dengan terjadinya Konjungtivitis akibat kerja. Dari analisis uji Me Nemar diperoleb basil dimana tidak ada perbedaan jumlah kasus konjungtivitis sebalum dan setelab penggonaan chemical goggles pada peke!ja yang terpajan uap Metil Etil Keton drul sinar Ultraviolet.Kesimpulan: tidak terdapat perbedaan jumlab kesus konjungtivitis akibat kelja sebelum dan setelab penggunaan chemical goggles pada peke!ja yang terpajan palarut organik Metil Etil Keton dan sinar Ultraviolet dikarenakan ketidakdisiplinan di lingkungan kerja yang panas.

---

Background: exposure to MEK and UV mys at cementing division may cause various health problem, especially to the eyes of workers. It is very interesting subject to be studied that the incidence of conjunctivitis in company clinic always be among the most top ten diseases. Have the conjunctivitis occurred because of their job or not?Methods: study was conducted by pre and post design in which post study, respondents were interfered by using chemical goggle. Forty four workers who exposed to MEK and UV miss at cementing division plant 5 were included in tills study. Data was collected by interviewing, questionnaire, physical examination and eyes examination. Analyses of the data had done to assess whether the goggle could reduce the incident of occupation.al conjunctivitis.Results: Not having worn the goggle, the incidence of conjunctivitis among respondents was 59.1 %. Having worn the goggle the incidence of conjunctivitis among respondents was 56.&%. One of the reason was that respondents had not been discipline to wear the goggle. It was happened because most of respondents had have low educational level (elementary and junior high school) that influence to their health awareness. Respondents were also often to release the goggles {70.4%) because the use of goggles had been not convenient. That inconvenient could be result in the temperature so it is necessary to improve working environment. There was no significant relationship (p> 0.05) between risk factors for the variable of age, length of work, height level of the eyes when sitting, education level and health condition of the eyes (shimmer test) with occupational conjunctivitis. Using Me Nemar 1est obtained that there was no significant differences between pre and post the use of chemical goggle on workers who exposed to MEK and UV rays.Conclusions: This study couldn't prove the hypothesis that there had been differences on incideoce of occupational conjunctivitis between pre and post the use of chemical goggle on workers who had exposed to MEK and UV rays."

"Penelitian ini mengkaji kinerja UV detektor berbasis ZnO nanorods. ZnO dipilih sebagai material utama karena sifat-sifatnya yang unggul seperti band gap energi yang lebar, mobilitas elektron yang tinggi, dan sensitivitas terhadap sinar UV. Pengembangan UV detektor berbasis ZnO NRs dilakukan untuk mendapatkan material yang terbaik. Pengaruh radiasi UV/Ozone dilakukan untuk memodifikasi sifat-sifat material. Perlakuan UV/Ozone menghasilkan perubahan yang signifikan pada ZnO NRs, seperti modifikasi morfologi, peningkatan kristalinitas, dan efisiensi emisi PL. UV detektor berbasis ZnO NRs dengan UV/Ozone menunjukkan responsivitas yang signifikan dari 0.13 A/W menjadi 0.64 A/W. Peningkatan responsivitas ini juga menyebabkan peningkatan detektivitas dari 0.99×10^10 Jones menjadi 4.46×10^10 Jones. Selain itu sensitivitas dan efisiensi konversi foton ke listrik juga meningkat, dengan hasil terbaik menunjukkan peningkatan sensitivitas dari 25% menjadi 100% dan EQE 43.26% menjadi 216.28%. Hasil ini memberikan wawasan mendalam tentang potensi penerapan radiasi UV/Ozone dalam meningkatkan kinerja detektor UV berbasis ZnO NRs. Implikasinya adalah pengembangan UV detektor yang lebih responsif, sensitif, dan stabil untuk berbagai aplikasi, termasuk pengukuran radiasi UV, sensor lingkungan, dan teknologi fotovoltaik.

---

This research examines the performance of UV detectors based on ZnO nanorods. ZnO is chosen as the primary material due to its superior properties such as wide band gap energy, high electron mobility, and sensitivity to UV light. The development of UV detectors based on ZnO NRs is carried out to obtain the best material. The influence of UV/Ozone radiation is applied to modify the material properties. UV/Ozone treatment results in significant changes in ZnO NRs, such as morphological modifications, increased crystallinity, and enhanced PL emission efficiency. UV detectors based on ZnO NRs treated with UV/Ozone showed a notable increase in responsivity from 0.13 A/W to 0.64 A/W. This increased responsivity also led to an improvement in detectivity from 0.99×10^10 Jones to 4.46×10^10 Jones. Additionally, the sensitivity and the efficiency of converting photons to electricity also improved, with the best results showing an increase in sensitivity from 25% to 100% and EQE from 43.26% to 216.28%. These results provide valuable insights into the potential application of UV/Ozone radiation in enhancing the performance of UV detectors based on ZnO NRs. The implications include the development of more responsive, sensitive, and stable UV detectors for various applications, such as UV radiation measurement, environmental sensors, and photovoltaic technology."

"Fotodetektor UV berbasis nanostruktur ZnO dengan konfigurasi logam-semikonduktor-logam (MSM) menarik banyak minat karena pembuatannya yang sederhana. Namun, mereka menghadapi masalah seperti laju rekombinasi tinggi dan mobilitas pembawa muatan rendah. Penelitian ini secara menyeluruh mengkaji efek dari paparan UV-O3 selama 15 menit pada struktur ZnO/MoS2. Penambahan nanosheets MoS2 dan UV-O3 treatment secara signifikan meningkatkan seluruh parameter kinerja fotodektektor. ZnO/MoS2UVo menunjukkan hasil yang paling baik, dengan peningkatan enam kali lipat dalam Sensitivitas di bawah cahaya UV dibandingkan dengan ZnO NR murni. Responsivitas, Detektivitas, dan Efisiensi Kuantum juga menunjukkan peningkatan hingga 102%. Peningkatan ini secara umum disebabkan oleh penurunan arus gelap (dark current) setelah penambahan nanosheets MoS2 pada ZnO NR. Penurunan ini mungkin disebabkan oleh pengurangan jumlah kekosongan oksigen ( ) karena terisi oleh atom tepi belerang S dari MoS2. Selain itu, penurunan arus gelap secara lebih lanjut setelah paparan UV-O3 disebabkan oleh semakin berkurangya dalam ZnO. UV-O3 ­treatment memperkenalkan atom oksigen baru, menggantikan atom tepi belerang pada kekosongan tersebut, yang kemudian membentuk lapisan molybdenum oksida (MoO3) pada permukaan ZnO/MoS2. Meskipun demikian, banyaknya sambungan antara ZnO, MoS2, dan MoO3 memperlambat transfer muatan ke elektroda.

---

UV photodetectors based on ZnO nanostructures, using a metal-semiconductor-metal (MSM) configuration, are popular due to their simple fabrication. However, they face issues like a high recombination rate and low charge carrier mobility. This study thoroughly examines the effects of 15 min UV-O3 exposure on the ZnO/MoS2 structure. The integration of MoS2 nanosheets and UV-O3 treatment significantly boosts all performance parameters. ZnO/MoS2UVo displays the most remarkable results, with a six-fold increase in Sensitivity under UV light compared to pure ZnO NR. It also demonstrates up to a 102% enhancement in Responsivity, Detectivity, and Quantum efiiciency. This enhancement is primarily attributed to the decline in dark current after applying a MoS2 coating on ZnO. This decrease is attributed to the reduction of oxygen vacancies ( ) as sulfur edge atoms from MoS2 fill these vacancies. Furthermore, additional dark current reduction post UV-O3 treatment is due to a substantial reduction in oxygen vacancies within the ZnO. The UV-O3 treatment introduces new oxygen atoms, replacing the sulfur edge atoms at these vacancies, forming a molybdenum oxide (MoO3) layer on the ZnO/MoS2 surface. Despite these improvements, the multiple junctions between ZnO, MoS2, and MoO3."

"Radiasi sinar ultraviolet dapat memberi efek negatif pada kulit manusia. Salah satu cara untuk melindungi kulit dari bahaya sinar UV adalah dengan menggunakan tabir surya atau produk kosmetik lain yang memiliki kandungan bahan fotoprotektif. Penggunaan produk kosmetik dengan kandungan bahan alam sebagai fotoprotektor juga semakin diminati. Dalam review artikel ini memuat tentang berbagai bahan alam yang memiliki efek fotoprotektif dan mungkin dapat digunakan dalam formulasi sediaan kosmetik. Bahan alam tersebut diantaranya adalah alga coklat, teh hijau, delima, lidah buaya, apel, anggur, kunyit, wortel, walnut, kopi, minyak biji bunga matahari, dan tomat. Bahan alam tersebut memiliki kandungan senyawa yang memiliki potensi sebagai agen fotoprotektif dan memungkinkan untuk digunakan dalam pengembangan formulasi suatu produk kosmetik.

---

Ultraviolet radiation can have a negative effect on human skin. One of the way to protect the skin from the dangers of UV rays is to use sunscreen or other cosmetic products that contain photoprotective ingredients. The use of cosmetic products with natural ingredients as photoprotectors is also increasingly in demand. In this review article contains various natural ingredients that have photoprotective effects and may be used in preparation of cosmetic formulations. These natural ingredients include brown algae, green tea, pomegranate, aloe vera, apples, grapes, turmeric, carrots, walnuts, coffee, sunflower seed oil, and tomatoes. These natural ingredients contain compounds that have potential as photoprotective agents and allow them to be used in the development of a cosmetic product formulation."

"Ketahanan warna merupakan parameter penting pada aplikasi cat. Penelitian ini bertujuan untuk mempelajari proses kinetika degradasi warna akibat paparan sinar UV serta agar mengetahui lamanya ketahanan warna cat dan besar nilai perubahan warna yang dihasilkan dari Kopolimer Stirena MMA. Kopolimer Stirena MMA sebagai aplikasi cat diuji dengan variasi temperatur, waktu, dan pigmen. Data diperoleh menunjukkan bahwa Kopolimer Stirena MMA sebagai aplikasi cat dengan penambahan pigmen 3% dan 10% lebih tahan dalam menahan sinar UV dengan perubahan warna yang tidak terlalu besar ΔE ≤ 3 sedangkan Kopolimer Stirena MMA tanpa pigmen dan pigmen 5% mengalami perubahan warna yang signifikan setelah penyinaran UV selama 50 jam dan pada temperatur 50℃. Berdasarkan hasil pengukuran, kinetika degradasi warna mengikuti persamaan Avrami yang menunjukkan bahwa semakin tinggi kenaikan temperatur maka semakin cepat laju degradasi. Energi aktivasi rendah mempengaruhi laju degradasi pigmen 3% dan pigmen 5% menjadi lebih cepat dibandingkan dengan penelitian tanpa pigmen dan pigmen 10%.

---

Color durability is an important parameter in paint application. This research aims to study the kinetics of color degradation due to exposure to UV light and to determine the length of color retention and the magnitude of the color change resulting from Styrene MMA Copolymer. Styrene MMA copolymer as a paint application was tested with variations in temperature, time and pigment. The data obtained shows that MMA Styrene Copolymer as a paint application with the addition of 3% and 10% pigment is more resistant to UV rays with color changes that are not too large ΔE ≤ 3 while MMA Styrene Copolymer without pigment and 5% pigment experience significant color changes after that UV copying for 50 hours and at a temperature of 50℃. Based on the measurement results, the color degradation kinetics follow the Avrami equation which shows that the higher the temperature rise, the faster the degradation rate. Low activation energy influences the degradation rate of 3% pigment and 5% pigment to be faster compared to studies without pigment and 10% pigment."

"Kemampuan menghadapi cekaman abiotik, termasuk radiasi UV-B menentukan kemampuan kolonisasi tumbuhan invasif Synedrella nodiflora (L.) Gaertn. yang tumbuh di tempat ternaung dan terbuka. Synedrella nodiflora diduga toleran terhadap intensitas UV-B yang relatif tinggi. Peningkatan ekspresi gen-gen penyandi Heat Shock Protein 70 (Hsp70) merupakan salah satu respons pertahanan tumbuhan terhadap cekaman UV-B. Oleh sebab itu, perlu dilakukan penelitian untuk membandingkan tingkat ekspresi gen penyandi Hsp70 di sitoplasma, mitokondria, dan plastida (Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2) pada daun Synedrella nodiflora terhadap kondisi lingkungan dengan intensitas radiasi UV-B yang berbeda. Penelitian dan pengukuran faktor lingkungan dilakukan di area kampus Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam, Universitas Indonesia, Depok. Real-time PCR digunakan untuk kuantifikasi cDNA Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2. Kuantitas cDNA tiap gen dinormalisasi terhadap gen TUB sebagai reference gene. Tingkat ekspresi gen relatif dianalisis dengan metode Pfaffl. Lokasi kontrol, ternaung, dan terbuka secara berturut-turut memiliki rerata intensitas radiasi UV-B sebesar 18,4 ± 0,1, 44,1 ± 0,6, dan 260,1 ± 78,3 mW/m2. Daun S. nodiflora dari lokasi ternaung memiliki tingkat ekspresi gen Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2 yang meningkat 85,54; 2,41; dan 30,58 kali relatif terhadap TUB. Daun dari lokasi terbuka memiliki tingkat ekspresi gen Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2 yang meningkat 2,01, 9,46, dan 2,50 kali relatif terhadap TUB. Tingkat ekspresi Hsp70 dan cpHsc70-2 relatif lebih tinggi pada daun yang dikoleksi dari lokasi ternaung, sedangkan mtHsc70-1 relatif lebih rendah. Sebaliknya, tingkat ekspresi Hsp70 dan cpHsc70-2 relatif lebih rendah padadaun yang dikoleksi dari lokasi terbuka, sedangkan mtHsc70-1 relatif lebih tinggi. Synedrella nodiflora di lokasi terbuka diduga telah teraklimatisasi terhadap kondisi lingkungan dengan suhu, intensitas cahaya, dan intensitas UV-B yang relatif lebih tinggi. Hal tersebut menyebabkan S. nodiflora di lokasi terbuka mengalami peningkatan suhu, intensitas cahaya, dan intensitas UV-B minimum yang dibutuhkan untuk menginduksi peningkatan ekspresi gen Hsp70 dan cpHsc70-2. Gen Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2 memiliki pola ekspresi yang berbeda pada kondisi lingkungan tumbuh Synedrella nodiflora, baik kondisi ternaung maupun terbuka (intensitas radiasi UV-B yang berbeda). Tingkat ekspresi Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2 diduga juga dipengaruhi oleh faktor lain, di antaranya suhu dan intensitas cahaya.

---

The ability to deal with abiotic stresses, including UV-B radiation determines the colonizing ability of an invasive plant species, Synedrella nodiflora (L.) Gaertn. that grows in shaded and open places. Synedrella nodiflora may possibly tolerant to relatively high UV-B intensity. Increased expression levels of genes encoding Heat Shock Protein 70 (Hsp70) are one of the plant defense responses against UV-B stress. Therefore, the study aimed was to compare expression levels of genes encoding cytosolic, mitochondrial, and plastid Hsp70 (Hsp70, mtHsc70-1, and cpHsc70-2) in Synedrella nodiflora leaves against environmental conditions with different UV-B radiation intensities. Research and measurement of environmental factors were carried out in Faculty of Mathematics and Natural Sciences campus area, Universitas Indonesia, Depok. Real-time PCR was used to quantify Hsp70, mtHsc70-1, and cpHsc70-2 cDNA. cDNA quantity of each gene was normalized to TUB gene as reference gene. Relative gene expression levels were analyzed using Pfaffl method. Average UV-B intensity radiation in control, shaded, and open locations were 18,4 ± 0,1, 44,1 ± 0,6, and 260,1 ± 78,3 mW/m2, respectively. Synedrella nodiflora leaves from shaded location had Hsp70, mtHsc70-1, and cpHsc70-2 expression levels that increased 85,54; 2,41; and 30,58-fold relative to TUB. Leaves from open location had Hsp70, mtHsc70-1, and cpHsc70-2 expression levels that increased 2,01, 9,46, dan 2,50-fold relative to TUB. Expression levels of Hsp70 dan cpHsc70-2 were relatively higher in leaves that collected from shaded location, while mtHsc70-1 was relatively lower. Inversely, expression levels of Hsp70dan cpHsc70-2 were relatively lower in leaves that collected from open location, while mtHsc70-1 was relatively higher. Synedrella nodiflora in open location is possibly have acclimatized to environmental conditions with relatively higher temperature, light intensity, dan UV-B intensity. This acclimatization caused S. nodiflora in open location experienced an increase in minimum temperature, light intensity, and UV-B intensity required to induce an increase in Hsp70 dan cpHsc70-2 gene expression. The Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2 genes have different expression patterns under growth conditions of S. nodiflora, both shaded and open conditions (different UV-B radiation intensities). The expression levels of Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2 may also influence by another factors, including temperature and light intensity."

"ABSTRACTStres oksidatif merupakan kondisi dimana terjadi ketidakseimbangan antara jumlah radikal bebas yang menyerang tubuh dengan jumlah antioksidan sebagai mekanisme pertahanan tubuh. Stres oksidatif akan menyerang molekul biologis seperti lipid, protein, dan DNA sehingga memicu penyakit neurodegeneratif dan penyakit parah lainnya. Radiasi UV dari matahari menjadi salah satu faktor penyumbang terbesar terjadinya stres oksidatif. Di sisi lain, ditemukan fakta bahwa di dalam propolis ditemukan sifat antioksidan yang merupakan mekanisme pertahanan melawan stres oksidatif. Oleh karena itu, penulis melakukan penelitian tentang efek proteksi propolis wax dari lebah jenis Tetragonula sp terhadap sel yang dipapar radiasi UV. Sel yang digunakan adalah HEK293T dan Fibroblas cell line dimana dilakukan 4 uji untuk mengklarifikasi hipotesis yang dibuat: uji proliferasi sel dengan pengukuran absorbansi warna yang dihasilkan oleh WST-8; uji viabilitas sel dengan pengamatan melalui mikroskop fluoresens pada sel yang diwarnai dengan Hoechst dan PI, uji LDH/apoptosis sel dengan pengukuran absorbansi warna yang dihasilkan oleh WST-8, dan uji jumlah radikal bebas yang diproduksi sel dengan mengukur intensitas fluoresens yang dihasilkan oleh diklorofloresen. Variabel bebas yang digunakan adalah konsentrasi propolis wax. Penulis juga menganalisis senyawa yang terkandung dalam propolis wax menggunakan metode LC-MS. Hasil yang didapat sesuai dengan hipotesis yang dibuat dimana dari keempat uji yang dilakukan didapati sifat proteksi propolis wax terhadap sel yang terpapar radiasi UV namun pada range konsentrasi propolis yang lebih besar memiliki kecenderungan memberikan efek toksik ke sel. Sedangkan pada hasil LC-MS didapat sekitar 85 senyawa dimana 35 diantaranya merupakan senyawa turunan flavonoid dan polifenol sehingga memiliki sifat antioksidan. Selain itu, juga ditemukan 5 senyawa yang dapat menyebabkan apoptosis pada sel. Kesimpulannya, propolis wax dapat digunakan sebagai alternatif pengobatan stres oksidatif dan penyakit yang terkait dengannya di masa mendatang serta perlu dilakukan penelitian lebih lanjut untuk menentukan konsentrasi optimum propolis sehingga tidak menyebabkan efek toksik ke sel.

---

ABSTRACTOxidative stress is a condition where there is imbalance condition between the number of free radicals that attack the body with the number of antioxidants as the body 39 s defensive mechanism. Oxidative stress will attack biological molecules such as lipids, proteins, and DNA that trigger neurodegenerative diseases and other severe diseases. UV radiation from the sun is one of the biggest contributing factors of oxidative stress. On the other hand, it was found antioxidant properties in propolis that can be used as a defense mechanism against oxidative stress. Therefore, the authors conducted a study on the effect of propolis wax protection from Tetragonula sp bees to cells exposed to UV radiation. Cells used were HEK293T and Fibroblast cell line where 4 tests were performed to clarify the hypothesis made cell proliferation test with color absorbance measurements produced by WST 8 the cell viability test by observation through a fluorescence microscope on cells stained with Hoechst and PI LDH apoptotic cell test with color absorbance measurements produced by WST 8, and free radicals produced on cells test by measuring the intensity of fluorescence produced by dichlorofluorescent. The independent variable used is propolis wax concentration. The author also analyzed the components contained in propolis wax using the LC MS method. The results obtained in accordance with the hypothesis that is made of the four tests conducted to find the nature of propolis wax protection against cells exposed to UV radiation but in the greater concentration range of propolis has a tendency to give toxic effects to cells. While on the results of LC MS obtained about 85 compounds in which 35 of them are compounds derived flavonoids and polyphenols that have antioxidant properties. In addition, also found 5 compounds that can cause apoptosis in cells. In conclusion, propolis wax can be used as an alternative treatment of oxidative stress and related diseases in the future and further research is needed to determine the optimum concentration of propolis to prevent from cells toxicity."

"Kanker kulit di Indonesia menempati urutan ketiga teratas dengan persentasesebesar 15,1% dari total 13 kanker yang paling umum diderita di Indonesia. Kanker kulitdisebabkan oleh radiasi sinar ultraviolet yang merusak DNA di dalam sel kulit manusia.Penggunaan tabir surya setiap hari dapat meminimalkan probabilitas terjadinya kankerkulit. Efisiensi tabir surya dinyatakan dalam nilai SPF. Penggunaan bahan pelindungmatahari dari bahan alam dipercaya lebih aman dan tidak banyak memiliki efek samping.Salah satu sumber hutan Indonesia yang berpotensi mengandung SPF alami adalah lemaktengkawang. kehadiran senyawa fenolik pada lignin memiliki kemampuan pertahananterhadap sinar UV, sehingga lignin disebut sebagai bahan penahan sinar UV alami.Penelitian ini mengevaluasi penambahan lignin yang mengandung fenolik untukmeningkatkan kandungan SPF pada lemak tengkawang. Pada penelitian ini lemaktengkawang mengalami tahap degumming, netralisasi dan pemucatan. Hasil penelitianmenunjukkan bahwa nilai SPF pada lemak tengkawang bernilai 7,052 dan penambahanl0% (b/b) lignin berhasil meningkat nilai tersebut menjadi 53, 549.

---

Skin cancer in Indonesia ranks the top three with a percentage of 15,1% of 13

most common cancers suffered in Indonesia. Skin cancer is caused by ultraviolet radiation

with ability to damages human DNA skin cell. The use of sunscreen every day can

decrease the probability of skin cancer. The efficiency of sunscreen is expressed in SPF

values. The use of sun protection agent from natural materials is believed to be more safe

and less side effects. One of Indonesia's forest resources that potentialy contain natural

sun protection factor is illipe butter. The presence of phenolic compounds in lignin has

the ability to defend against UV rays, so lignin can be called as natural UV retaining

agent. This study will evaluate the addition of lignin which contain phenolic that has the

ability to increase the SPF value in illipe butter. In this research, the treatment of illipe

butter will consist of degumming, neutralization and bleaching. The result showed that

the SPF value of illipe butter is 7,052 and the addition of 10% (w/w) lignin succeded in

increasing SPF value into 53,549."