Hasil Pencarian  ::  Simpan CSV :: Kembali

"Abstrak Fungsi dielektrik kompleks semikonduktor amort berbasis silikon terhidrogenasi a-SiO:H, a-Sic:H dan a-SiN:H telah dihitung dengan menggunakan model tetrahedron untuk energi 0-6 eV. Perhitungan dilakukan tetrahedral-tetrahedral yang berpusat di atom silikon dengan ikatan lokal atomik tertentu dan atom hidrogen dibatasi hanya berikatan jumlah atom oksigen ..."

"Telah dilakukan sintesis dan karakterisasi dielektrik amorf terhadap bahan berbasis barium titanat dengan penambahan unsur Pb. Dalam penelitian ini cuplikan Ba(1_,¢Pb,Ti0, diperoleh melalui metalurgi serbuk dengan bahan dasar BaCO3, PbCO,, dan TiO2 yang merupakan grade reagen dari E-Merck dengan perbandingan stoikidmetri nominal masing-masing 0,1 : 0,9 : 1. Analisis tennal menunjukkan bahwa bahan memiliki titik leleh pada 1350°C dimana temperatur tersebut lebih rendah dari BaTiO, Fasa gelas diperoleh melaiui pemanasan bahan hingga meleleh pada temperatur 1350°C diikuti oleh pendinginan oepat dalam medium nitrogen cair hingga membentuk cairan super dingin_ Difraktogram sinar-X dengan cacah step dan panjang gelombang. A (Cu Ka.)=1,5405 A yang diperoleh pada temperatur kamar, menunjukkan hilangnya seluruh puncak Bragg dan terjadi penggeiembungan cacah latar pada bahan. Kurva distribusi radial hasil pengamatan tanpa melakukan reduksi data diperoieh dengan menggunakan paket program kristallografi GSAS, secara kualitatif menunjukkan keminpan dengan fungsi distribusi radial yang ditunjukkan oleh zat cair sederhana. Pengukuran terhadap besaran konstanta dielelctrik relatif menunjukkan kenaikan yang tinggi pada 12O°C hingga 360°C dan temperatur curie dicapai pada 140°C dimana nilai konstanta dielektdk relatifnya adalah 4,13x10°.' Jangkauan temperatur yang Iebar dengan konstanta dieiektrik tinggi yang diperoleh menunjukkan bahwa sampel cocnk untuk temperatur tinggi dan berfluktuasi pada daerah jangkauan tersebut.

---

Barium titanate based with amorphous dielectric materials with Pb as a substituent atom have been synthesized and characterized. ln this study, Ba(,_,,Pb,,TiO3 were synthesized by using powder metallurgy trom BaCO3, PbCO3 and Ti02, which were reagents from E-Merck with nominal stoichiometric ratio of 0.1 : 0.9 : 1 respectively. Themwal analysis showed that the sample melting point is of 1350°C which is lower than that of BaTiO3. The glassy states was obtained by heating at the melting point temperature of 1350°C followed by quenching in liquid nitrogen media rapidly when the supercooled conditions achieved. The X-ray diffractograms were obtained with step scan and 2. (Cu Ka) =1,5405 A at room temperature showed the Bragg peaks dissapeared completely and the fluctuation of background prohle was occurred. The observed radial distribution function without data reduction were obtained by using of GSAS crystallographic software package which qualitatively showed that the function resembles the radial distribution function belongs to simple fluids. The relative dielectric constant that was measured from room temperature showed that there is a signiticant increasing value starting at 120°C up to 36O°C and the Curie temperature was occurred at 140°C while the value of corresponding relative dielectric constant is of 4,13x105. Broad range of temperature in which high dielectric constant was obtained indicates that the sample is suitables for high and tluctuating temperature in the range."

"Peranan fase amorf Si3N4 dalam nanokomposit nc-TiN/a-Si3N4 akan ditunjukkan serta dibandingkan dengan polikristal ZrN/Ni yang tidak memiliki fase amorf (non-komposit). Kehadiran fase amorf Si3N4 ini selain meningkatkan kekerasan, juga meningkatkan ketangguhan nanokomposit selama indentasi. Juga diamati lapisan tipis nanokomposit nc-TiN/a-Si3N4memiliki kestabilan termal yang lebih tinggi dibandingkan dengan polikristal ZrN/Ni.

---

The role of Si3N4 amorphous phase in nc-TiN/a-Si3N4 nanocomposites will be shown and compared with polycrystalline ZrN/Ni which has no such amorphous phase (non-composites). The presence of amorphous phase Si3N4 increases the hardness of film as well as the toughness of the bulk nanocomposites under indentation load. It has been observed that nc-TiN/a-Si3N4 nanocomposites films has higher thermal stability than ZrN/Ni polycrystalline films."

"ABSTRAK

Hidrogen merupakan salah satu sumber energi masa depan karena bersifat ramah lingkungan. Namun dalam pengembangannya masih terdapat beberapa masalah dalam metode penyimpanannya. Pada beberapa penelitian, ditemukan bahwa material berbasis silikon merupakan salah satu kandidat yang baik sebagai media penyimpanan hidrogen. Pada penelitian ini, penulis ingin melihat pengaruh temperatur dan tekanan terhadap adsorpsi hidrogen pada silika amorf dengan menggunakan simulasi dinamika molekuler menggunakan potensial Lennard-Jones. Pada simulasi ini temperatur yang digunakan yaitu 233, 253, 273 dan 293 K serta tekanan pada setiap temperatur bervariasi yaitu 1, 2, 5, 10 dan 15 atm. Simulasi ini berhasil menggambarkan dan mengindikasikan bahwa silika amorf memiliki kemampuan untuk menyimpan hidrogen yang cukup baik dimana temperatur dan tekanan mempengaruhi jumlah hidrogen yang teradsorpsi. Pengaruh temperatur yaitu pada temperatur yang lebih rendah (233 K), maka jumlah konsentrasi hidrogen yang terserap pada silika amorf akan semakin besar. Sementara pada temperatur yang lebih tinggi maka hasilnya akan menurun. Hasil adsorpsi terbaik terjadi pada tekanan yang lebih tinggi (15 atm) pada temperatur rendah (233 K) dengan konsentrasi hidrogen sebesar 0,048116%.

---

ABSTRACTHydrogen is one of the future source energy because it has environmentally friendly. However, there are still some problems in the storage method of hydrogen. In several studies, it was found that Silicon based material is a promising candidate as a hydrogen storage medium. In this study, the effect of various temperature and pressure to the adsorption of hydrogen on amorphous silica with molecular dynamics simulation using Lennard-Jones potential. In this simulation, the temperature that i used are 233, 253, 273 and 293 K with pressure at each temperature are 1, 2, 5, 10, and 15 atm. The simulations had successfully visualize and indicate that amorphous silica has a good hydrogen storage capability where temperature and pressure affect the amount of hydrogen adsorbed.. At low temperature (233 K), the hydrogen concentration are relatively high than at higher temperature. The best result of hydrogen capacity is 0,048116% that occurred at high pressure (15 atm) with low temperature (233 K) condition.

"

"ABSTRAKNitrogen sebagai unsur yang banyak terdapat di alam dapat dimanfaatkan sebagai gas yang diserap untuk membantu dalam mengkarakterisasi material, khususnya pada permukaan material. Menurut Brunauer-Emmet-Teller (BET) teori, nitrogen digunakan sebagai gas pengkarakterisasi material karena kemampuan pada kemurniannya yang tinggi dan dapat berinteraksi dengan zat padat. Sejauh ini BET hanya menghasilkan data berupa sifat kuantitatif namun tidak menunjukkan fenomena-fenomena yang dapat terlihat oleh karena itu, digunakan simulasi dinamika molekuler dan membuat pemodelannya untuk mengamati fenomena yang terjadi pada saat adsorpsi nitrogen pada silika amorf yang merupakan material berpori dengan luas permukaan yang besar. Pada penelitian ini simulasi dinamika molekuler yang dilakukan diatur dalam keadaan isotermis, dimana temperatur yang digunakan sebanyak 3 variabel yakni : 77 K, 100 K, dan 150 K pada variasi tekanan yang digunakan 1,3,5,7,  dan 10 atm. Berdasarkan hasil yang diperoleh dari simulasi menunjukkan pada saat temperatur 77 K memiliki kemampuan yang optimal dalam mengadsorpsi nitrogen dibandingkan temperatur 100 K dan 150 K.

 

---

Nitrogen as an element that is widely found in nature, can be used as a gas that is absorbed to help characterize materials, especially on the surface of the material. According Brunauer-Emmet-Teller (BET) is a theory where nitrogen is used as a gas characterizing material because of its ability to high purity and can interact with solid elements. So far, BET only produces data in the form of quantitative properties but does not show phenomena that can be seen, because of that, molecular dynamics simulations can be done and modeling it to observe the phenomenon that occurs during nitrogen adsorption in amorphous silica which is a porous material with a large surface area. In this study the molecular dynamics simulations are arranged in a state of isotherm, where the temperature used is 3 variables: 77 K, 100 K and 150 K in the variation of pressure used 1, 3, 5, 7, and 10 atm. Based on the results obtained from the simulation, it was found that on 77 K temperature had the optimal ability to adsorb nitrogen compared to 100 K and 150 K."

"Indonesia merupakan salah satu penghasil nikel dunia dengan produksi yang meningkat setiap tahunnya. Peningkatnya produksi nikel menyebabkan produk sampingnya, terak feronikel, juga meningkat sehingga membutuhkan area penyimpanan yang luas karena 1ton nikel yang diproduksi menghasilkan 8-14ton terak. Berdasarkan peraturan pemerintah, terak feronikel termasuk ke dalam limbah B3 (bahan berbahaya dan beracun) yang dapat direcovery. Sehingga dapat digunakan untuk berbagaimacam aplikasi seperti untuk bahan baku silika presipitat karena kandungan silikanya yang tinggi, yaitu 46,95%. Tujuan dari penelitian ini adalah untuk membuat silika presipitat dari terak feronikel dengan proses impregnasi, roasting, leaching dan presipitasi, untuk mengetahui pengaruh serangkaian prosesnya terhadap komposisi, fasa dan mikrostrukturnya serta karakterisasi produk yang dihasilkan. Proses impregnasi NaOH terhadap terak feronikel dilanjutkan dengan roasting pada temperatur 350 ° C selama 60 menit telah dilakukan. Kemudian leaching dilakukan terhadap hasil roasting terak feronikel teralkalinasi menggunakan aquades yang diikuti dengan proses presipitasi untuk menghasilkan silika presipitat. Fasa Na2SiO3 terbentuk dari hasil proses roasting. Namun, keberadaan fasa magnesium silikat pada residu leaching dapat menurunkan recovery SiO2 yang didapatkan.  Leaching pada temperatur 90 °C selama 60 menit dengan rasio s/l 1/6 dan kecepatan pengadukan 200 rpm dapat menghasilkan pregnant solution dengan % ekstraksi 29 %.  35,80 % silika presipitat berhasil direcovery dari pregnant solution silika dengan ukuran partikel dan surface area berturut-turut adalah 15,0706 ± 0,4481 mm dan 246,7045 ± 1,6324 m2/ g.

---

Indonesia is one of the countries that produce worlds nickel supply which has been increasing production capacity every year. Increasing nickel production causes the by-product, ferronickel slag, is also increases, thus it needs large storage area since 1ton nickel production generates 8-14ton slag. Based on the Indonesian governments regulation, ferronickel slag is the hazardous and toxic materials that can be recovered. It can be used for various applications such as raw material for precipitated silica since the high content of silica in the ferronickel slag, it is about 46,95 %. The aims of this study are to produce precipitated silica from ferronickel slag by impregnation, roasting, leaching and precipitation processes, to determine the effect of the series processes mentioned previously to the compositions, phases and microstructures as well as the characterizations of the precipitated silica produced.

Impregnation process of NaOH to the ferronickel slag followed by roasting at 350 ° C for 60 minutes were carried out. Then, leaching was performed to the roasted alkalinized ferronickel slag using distilled water followed by precipitation process to produce precipitated silica. Na2SiO3 phase formed from roasting process. However, the presence of magnesium silicate phases in the leaching residue could reduce recovery of SiO2 produced. Leaching at temperature of 90 ° C for 60 minutes with solid/ liquid ratio 1/ 6 and mixing speed of 200 rpm to the roasting product, produces 29 % of % extraction of Si in the pregnant solution. 35,80 % of silica precipitated recovered from the silica pregnant solution which has particle size and the surface area of 15,0706 ± 0,4481 mm and 246,7045 ± 1,6324 m2/g respectively."

"Fungsi dieiektrik kompleks lapisan tipis amorfsilikon karbon (a-Sii.xCx:H) hasit deposisi sputtering telah ditentukan dengan menggunakan hasil pengukuran spektroskopi ellipsometer. Besaran optis lapisan tipis a-Si/.,Cx:H diperoleh dengan prosedur MSE terhadap tan i// dan cos A hasil eksperimen dengan tan y/ dan cos A model matematis sistem lapisan tipis. Mode! sistem tiga media digunakan untuk mendiskripsikan lapisan tipis a-Sii.xCx:H di alas substrat corning 7059 yang terletak di udara. Fungsi dieiektrik kompleks yang diperoleh merupakan kurva yang mulus terhadap energi dan memperlihatkan kehadiran maksimum kurva. Fungsi dieiektrik bagian riil si merefleksikan kuadrat bagian riil indeks bias n sedangkan fungsi dieiektrik bagian imajiner £2 mewakili karakteristik bagian imajiner indeks bias k. Peningkatan konsentrasi karbon mengurangi tinggi maksimum dan menggeser posisi maksimum kurva ke energi yang lebih tinggi. Gap optis bertambah dengan peningkatan konsentrasi karbon sedangkan parameter B berkurang dengan meningkatnya konsentrasi karbon. Berkurangnya harga parameter B berhubungan dengan peningkatan ketidak-teratwan dari sistem amorf. Pengaruh peningkatan konsentrasi karbon terhadap fungsi dieiektrik, gap optis dan parameter B merupakan akibat dari berkurangnya ikatan Si-Si dan bertambahnya ikatan Si-C. Pengaruh konsentrasi karbon terhadap pseudo-fungsi dieiektrik kompleks mirip dengan fungsi dieiektrik kompleks.

---

The complex dielectric functions of the a-Si/.,Cx:H films deposited by sputtering methods have been determined by spectroscopy ellipsometry. Optical constants of the a-Sii.xCx:H films are obtained from the MSE procedure for the experimental and model parameters y/ and A. Model of three medium systems is used to describe the a-Si/.^C^H films on corning 7059 substrate in air ambient- The complex dielectric function curves are smooth and show a maximum. The real part of dielectric function reflects the behavior of n2 and the imaginary part reflects the dependence of k on energy. The curve maximum decrease in magnitude and shift to the higher energies with the carbon concentration increase. The optical gap becomes higher with the carbon contained increase in the films but the B parameter decreases. The decrease of this parameter has been related to the increase of compositional disorder. The influence of carbon concentration on the dielectric function, optical gap and B parameter is the result of replacing Si-Si bonds by Si-C bonds. The influence of carbon concentration to the pseudo-dielectric function is similar to the dielectric function.

---

The complex dielectric functions of the a-Si/.,Cx:H films deposited by sputtering methods have been determined by spectroscopy ellipsometry. Optical constants of the a-Sii.xCx:H films are obtained from the MSE procedure for the experimental and model parameters y/ and A. Model of three medium systems is used to describe the a-Si/.^C^H films on corning 7059 substrate in air ambient- The complex dielectric function curves are smooth and show a maximum. The real part of dielectric function reflects the behavior of n2 and the imaginary part reflects the dependence of k on energy. The curve maximum decrease in magnitude and shift to the higher energies with the carbon concentration increase. The optical gap becomes higher with the carbon contained increase in the films but the B parameter decreases. The decrease of this parameter has been related to the increase of compositional disorder. The influence of carbon concentration on the dielectric function, optical gap and B parameter is the result of replacing Si-Si bonds by Si-C bonds. The influence of carbon concentration to the pseudo-dielectric function is similar to the dielectric function

;Fungsi dieiektrik kompleks lapisan tipis amorfsilikon karbon (a-Sii.xCx:H) hasit deposisi sputtering telah ditentukan dengan menggunakan hasil pengukuran spektroskopi ellipsometer. Besaran optis lapisan tipis a-Si/.,Cx:H diperoleh dengan prosedur MSE terhadap tan i// dan cos A hasil eksperimen dengan tan y/ dan cos A model matematis sistem lapisan tipis. Mode! sistem tiga media digunakan untuk mendiskripsikan lapisan tipis a-Sii.xCx:H di alas substrat corning 7059 yang terletak di udara. Fungsi dieiektrik kompleks yang diperoleh merupakan kurva yang mulus terhadap energi dan memperlihatkan kehadiran maksimum kurva. Fungsi dieiektrik bagian riil si merefleksikan kuadrat bagian riil indeks bias n sedangkan fungsi dieiektrik bagian imajiner £2 mewakili karakteristik bagian imajiner indeks bias k. Peningkatan konsentrasi karbon mengurangi tinggi maksimum dan menggeser posisi maksimum kurva ke energi yang lebih tinggi. Gap optis bertambah dengan peningkatan konsentrasi karbon sedangkan parameter B berkurang dengan meningkatnya konsentrasi karbon. Berkurangnya harga parameter B berhubungan dengan peningkatan ketidak-teratwan dari sistem amorf. Pengaruh peningkatan konsentrasi karbon terhadap fungsi dieiektrik, gap optis dan parameter B merupakan akibat dari berkurangnya ikatan Si-Si dan bertambahnya ikatan Si-C. Pengaruh konsentrasi karbon terhadap pseudo-fungsi dieiektrik kompleks mirip dengan fungsi dieiektrik kompleks.

---

Abstract

The complex dielectric functions of the a-Si/.,Cx:H films deposited by sputtering methods have been determined by spectroscopy ellipsometry. Optical constants of the a-Sii.xCx:H films are obtained from the MSE procedure for the experimental and model parameters y/ and A. Model of three medium systems is used to describe the a-Si/.^C^H films on corning 7059 substrate in air ambient- The complex dielectric function curves are smooth and show a maximum. The real part of dielectric function reflects the behavior of n2 and the imaginary part reflects the dependence of k on energy. The curve maximum decrease in magnitude and shift to the higher energies with the carbon concentration increase. The optical gap becomes higher with the carbon contained increase in the films but the B parameter decreases. The decrease of this parameter has been related to the increase of compositional disorder. The influence of carbon concentration on the dielectric function, optical gap and B parameter is the result of replacing Si-Si bonds by Si-C bonds. The influence of carbon concentration to the pseudo-dielectric function is similar to the dielectric function."