Hasil Pencarian  ::  Simpan CSV :: Kembali

"Sintesis nanozeolit dilakukan dengan menggunakan teknik seeding,dimana seed merupakan zeolite Y dengan tetraethyl orto silicate (TEOS)sebagai sumber silika, aluminium isopropoxide Al[(CH3)2CHO)]3 sebagaisumber aluminium dan tetramethylammoniumhydroxide (TMAOH) sebagaitemplate (zat pengarah). Proses dilakukan dalam kondisi hidrotermal, dimanasintesis zeolite dikondisikan menyerupai sintesis yang terjadi pada alamsemesta. Tujuan penelitian ini adalah membuat nanozeolit tipe Faujasitedengan teknik seeding agar didapat ukuran dan struktur nanozeolit yangseragam dan menghindari terjadinya pembentukan agregat.Perbedaan perbandingan Si/Al, jenis template dan pH akanmempengaruhi hasil dan proses kristalisasi zeolit yang terbentuk. Kondisioptimum untuk pertumbuhan kristal zeolite adalah pada pH 9, dengan lamapertumbuhan kristal FAU selama 20 jam, pada suhu 100oC, pada plat glassycarbon yang termodifikasi PDDA,PSS,PDDA, dan dengan variasi jumlahlapisan seed (1 kali, 2 kali, dan 3 kali pelapisan) pada permukaan glassycarbon. Pertumbuhan struktur dan ukuran zeolite yang seragam dihasilkanpada permukaan glasyy carbon dengan 1 kali pelapisan seed"

"Pada penelitian ini nanozeolit dibuat dengan menggunakan tetraethyi ortosilicate(TEOS) sebagai sumber silika, aluminium isopropoxide [(CH3)2CHO)]sebagai sumber aluminium dan tetrapropylammoniumbromide (TPABr) sebagai template (zat pengarah).Penelitian ini bertujuan membuat nanozeolit dengan menggunakan template (zat pengarah) TPABr serta memodifikasi elektroda glassy carbon dengan zeolit-Fe secara layer by layer yang kemudian mengaplikasikan elektoda glassy carbon yang telah dimodifikasi sebagai sensor arsen (ll).Kondisi optimum untuk pengukuran arsen menggunakan glassy carbon yang telah dimodifikasi menggunakan zeolit-Fe dengan metode voltametri siklik adalah pada pH 8 dengan jumlah lapisan polimer (PDDA dan PSS) sebanyak 5 lapisan, lama perendaman di dalam larutan Fe 3+ selama 60 menit,dengan scan rate 100 mV/s dan kisaran potensial dari-1500 sampai1100 mV. Diperoleh nilai batas deteksi sebesar 0,084 μM. Presisi pengukuran respon arus terhadap larutan arsen (III) 20 μM diperoleh sebesar 1, 94%."