Glow discharge processes: sputtering and plasma etching / Brian Chapman

Analisa pengaruh waktu pemrosesan terhadap struktur mikro lapisan tipis CcO2 hasil penumbuhan dengan teknologi sputtering setelah anil 300C selama 1 jam

Studi pengaruh persiapan permukaan material nosel terhadap karakteristik pelapisan Cr3C2-NiCr dengan metode high velocity oxygen fuel (HVOF) thermal spray

Distribusi keterbalan dan distribusi resistivitas listrik lapisan tipis Indium tin oxide (ITO) yang dibuat dengan metode sputtering

Studi hasil pelapisan proses semprot logam nyala api oksi-asetilen pada logam dasar baja 8407 supreme dan baja EMS-45 dengan serbuk pelapis stellite-6