Chapman, Brian
Glow discharge processes: sputtering and plasma etching / Brian Chapman
John Wiley & Sons, 1980
 Buku Teks SO
Citra Widuri
Analisa pengaruh waktu pemrosesan terhadap struktur mikro lapisan tipis CcO2 hasil penumbuhan dengan teknologi sputtering setelah anil 300C selama 1 jam
Fakultas Teknik Universitas Indonesia, 2004
 UI - Skripsi Membership
Imelda Gunawan
Mekanisme Pembawa Muatan pada In2O3 : Sn yang Dibuat dengan Metode DC Magnetron Sputtering
Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam Universitas Indonesia, 2002
 UI - Tesis Membership
Yus Prasetyo
Studi pengaruh persiapan permukaan material nosel terhadap karakteristik pelapisan Cr3C2-NiCr dengan metode high velocity oxygen fuel (HVOF) thermal spray
Fakultas Teknik Universitas Indonesia, 2004
 UI - Skripsi Membership
Antonius Suban Hali
Distribusi keterbalan dan distribusi resistivitas listrik lapisan tipis Indium tin oxide (ITO) yang dibuat dengan metode sputtering
Universitas Indonesia, 2008
 UI - Tesis Open